ST11181 Alvo de pulverização de cromo e alumínio, alvo CrAl

Alvo de pulverização de alumínio e cromo, descrição do alvo CrAl

O alvo de pulverização de cromo e alumínio, alvo CrAl, é composto por uma liga de cromo e alumínio cuidadosamente equilibrada e otimizada para processos de deposição de filmes finos. A microestrutura projetada do alvo promove o crescimento consistente e a uniformidade do filme em vários substratos. Sua composição de liga controlada é essencial para manter taxas de deposição e propriedades de filme reproduzíveis na fabricação de semicondutores e monitores. Esse produto atende aos altos padrões exigidos pelos sistemas industriais de sputtering.

Características do alvo de pulverização de cromo e alumínio, alvo CrAl

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo de pulverização de cromo e alumínio, aplicações do alvo CrAl

Eletrônicos
- Usado como alvo de pulverização em sistemas de deposição de semicondutores para obter filmes finos de metal uniformes, aproveitando sua composição de liga consistente.

Industrial
- Aplicado como fonte de revestimento em processos de fabricação para melhorar as propriedades da superfície, utilizando sua microestrutura estável e comportamento de deposição previsível.

Componentes ópticos
- Serve como material para depositar revestimentos reflexivos e condutores em dispositivos ópticos para ajustar as propriedades reflexivas com espessura de filme controlada.

Alvo de pulverização de cromo e alumínio, embalagem do alvo CrAl

O alvo é embalado em um recipiente antiestático revestido de espuma e selado em um saco a vácuo para proteger contra impacto mecânico e contaminação durante o transporte. Recomenda-se armazenar o alvo em um ambiente seco e com temperatura controlada, longe de umidade e poeira. Personalização adicional, incluindo camadas de barreira e rotulagem personalizada, está disponível para atender a requisitos específicos de manuseio e armazenamento.

Informações adicionais

Os alvos de pulverização desempenham um papel fundamental nos processos de deposição de filmes finos em vários setores industriais. O controle preciso da composição do material facilita a produção de filmes com espessura uniforme e adesão aprimorada. Esses alvos são componentes fundamentais em processos como a fabricação de semicondutores e o revestimento óptico, em que a consistência do material é fundamental.

Os avanços nas técnicas de produção de alvos contribuíram para melhorar o desempenho dos sistemas de deposição. A compreensão da interação entre as propriedades do material e o comportamento da pulverização ajuda os engenheiros a otimizar os parâmetros de deposição, levando a características refinadas do filme e a um melhor desempenho do dispositivo. Esse contexto mais amplo dá suporte à inovação contínua no processamento de materiais e no design de aplicações.