ST11188 Alvo rotativo de ferro, alvo de Fe

Descrição do alvo rotativo de ferro, alvo de Fe

O alvo rotativo de ferro, alvo de Fe, é um alvo de pulverização composto de ferro (Fe) de alta pureza e fabricado de acordo com especificações dimensionais rigorosas. Seu projeto personalizável garante a compatibilidade com diversos sistemas de pulverização usados nos setores de semicondutores e de revestimento. A SAM emprega um rigoroso controle de qualidade espectrométrico para monitorar a uniformidade do material, o que é fundamental para aplicações que exigem espessura precisa da camada e densidade mínima de defeitos.

Características do alvo rotativo de ferro, alvo de Fe

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Aplicações do alvo rotativo de ferro, alvo de Fe

Eletrônicos
- Usado como alvo de deposição em sistemas de pulverização catódica para a fabricação de dispositivos semicondutores para obter uma espessura de filme consistente, aproveitando a pureza controlada do material.

Industrial
- Aplicado como material de origem para revestimentos de proteção em componentes estruturais para aumentar a resistência à corrosão, utilizando dimensões personalizáveis e composição uniforme.

Energia
- Serve como alvo para a fabricação de núcleos magnéticos em dispositivos de conversão de energia para melhorar o desempenho magnético, aproveitando as características de deposição estável do ferro.

Alvo rotativo de ferro, embalagem do alvo de Fe

O Alvo Rotativo de Ferro, Alvo de Fe é embalado em recipientes antiestáticos resistentes à umidade com inserções revestidas de espuma para evitar danos durante o transporte e o armazenamento. A embalagem protetora de polietileno minimiza a oxidação e a contaminação por partículas. A embalagem garante que o alvo permaneça em um ambiente controlado, e opções para embalagens personalizadas, incluindo etiquetagem e arranjos compartimentados, estão disponíveis para atender a requisitos específicos de manuseio.

Informações adicionais

Os alvos de ferro são componentes essenciais nos sistemas de deposição por pulverização catódica, em que a pureza do material e a precisão dimensional afetam diretamente as propriedades do filme. A liberação controlada de átomos de um alvo de ferro garante camadas de revestimento uniformes e formação reduzida de defeitos em filmes finos.

A compreensão da interação entre as características do material e os parâmetros de deposição é essencial para a otimização dos processos de pulverização catódica. Os avanços nas técnicas de produção permitem o controle preciso das propriedades do alvo, o que contribui para um melhor desempenho na fabricação de semicondutores e em aplicações de revestimento industrial.