Substrato de SiO2/Si revestido de Ni CY3454

Número de catálogo.	CY3454
Composição	Ni, SiO2, Si
Pureza	＞99.99%
Dimensões	4", 10x10x0,5 mm ou personalizado
Acabamento da superfície	Um lado polido
Orientação	<100> ±0.5°

Substrato de SiO2/Si revestido de Ni pode ser utilizado na área de nano, microscopia eletrônica de varredura (SEM), microscopia de força atômica (AFM) e outras variáveis de microscópios de sondas de varredura. Stanford Advanced Materials (SAM) possui experiência na fabricação e fornecimento de produtos ópticos de alta qualidade.

Produtos relacionados: Substrato de SiO2/Si revestido de Ti, Substrato de SiO2/Si revestido de Cu, Wafer Silício Banho de Ouro, Wafer Silício Banho de Pt, Wafer Silício Banho de Ag

Pedido de cotação

Descrição da

Especificação

Avaliações

ÚLTIMAS RECOMENDAÇÕES

CY0104 Cristal de fluoreto de magnésio (MgF2 Crystal)

CY0106 Cristal de fluoreto de bário

CY0474 Cristais de ligação por difusão

CY0483 Ho:Cr:Tm:YAG

CY0485 Nd:Ce:YAG

CY0492 Titanil fosfato de potássio (KTP)

OP0494 Fosfato de titânio e potássio resistente a trilhas cinzas (GTR-KTP)

CY0495 Borato de beta-bário (BBO)

CY0496 Cristal BiB3O6 (BIBO)

SOLICITAR UM ORÇAMENTO

Envie-nos uma consulta hoje mesmo para saber mais e receber os preços mais recentes. Obrigado!

* O seu nome

* O seu correio eletrónico

Para um processamento rápido, utilize o endereço de e-mail da sua empresa.

* Nome do produto

* O seu telefone

* País

Brasil

Comentários

Incluir desenhos:

Armazenar ficheiros aqui ou

Formatos de ficheiro aceites PDF, png, jpg, jpeg; se forem carregados vários ficheiros ao mesmo tempo, cada ficheiro deve ter menos de 2 MB.

* Código de controlo

Espessura do Filme de Níquel	100 nm
Cristalinidade do Filme	<111> - cristais policristalinos orientados
Tamanho	4" de diâmetro +/- 0,5 mm, ou personalizado 0,525 +/- 0,025 mm de espessura
Acabamento da superfície	Polido em um lado
Tipo de Condutividade	Si tipo P, dopado com B
Espessura de SiO2	300 nm
Resistividade	1-20 ohm-cm
Orientação	<100> ±0,5°

Espessura do Filme de Níquel	100nm
Cristalinidade do Filme	<111> - policristais orientados
Tamanho	Diâmetro de 4" +/- 0,5 mm, ou personalizado 0,525 +/- 0,025 mm de espessura
Acabamento de Superfície	Polido de um lado
Tipo Condutivo	Si tipo P, dopado com B
Espessura de SiO2	300 nm
Resistividade	1-20 ohm-cm
Orientação	<100> ±0,5°

Substrato de SiO2/Si revestido de Ni CY3454

Descrição do Substrato Ni Revestido de SiO2/Si

Especificações do Substrato Ni Revestido de SiO2/Si

Aplicações do Substrato Ni Revestido de SiO2/Si

Embalagem do Substrato Ni Revestido de SiO2/Si

Especificação

SDS

AVALIAÇÕES DOS CLIENTES

ÚLTIMAS RECOMENDAÇÕES

SOLICITAR UM ORÇAMENTO

PRECISA DE AJUDA?

NOSSA EMPRESA

CATEGORIAS POPULARES