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  • ST0039 Alvo de Sputtering de Rutênio (Ru)

    • ST0039 Alvo de Sputtering de Rutênio (Ru)

    Número de catálogo. ST0039
    Composição Ru
    Número CAS 7440-18-8
    Pureza ≥99%
    Forma Discos ou feitos sob medida
    Diâmetro 2", 3", 4", 5", 6" ou sob medida
    Espessura 0,25", 0,125" ou sob medida
    Tipo de título Índio, elastômero
    Sinônimos Alvo de pulverização de rutênio, alvo de Ru

    O alvo de pulverização de rutênio (Ru) é amplamente reconhecido por seu excelente desempenho na deposição de filmes finos e em aplicações microeletrônicas avançadas. Stanford Advanced Materials é sinônimo de inovação e precisão, fornecendo materiais que superam consistentemente os padrões do setor.

    Produtos relacionados: Alvo de pulverização de platina (Pt), alvo de nióbio, alvo de pulverização de rênio (Re)

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    Ruthenium (Ru) Sputtering Target
    Ruthenium (Ru) Sputtering Target
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    ST0039 Alvo de Sputtering de Rutênio (Ru)
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    Composição
    Ru
    Número CAS
    7440-18-8
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou feitos sob medida
    Diâmetro
    2", 3", 4", 5", 6" ou sob medida
    Espessura
    0,25", 0,125" ou sob medida
    Tipo de título
    Índio, elastômero
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de rutênio, alvo de Ru
     
    ST0022 Alvo de Sputtering de Irídio (Ir)
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    Composição
    Ir
    Número CAS
    7439-88-5
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Diâmetro
    2", 3", 4", 5", 6" ou personalizado
    Espessura
    0,25", 0,125" ou personalizado
    Tipo de título
    Cobre ou personalizado
    Sinônimos
    Alvo de irídio para pulverização catódica, alvo de irídio
     
    ST0035 Alvo de Sputtering de Platina (Pt)
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    Composição
    Pt
    Número CAS
    7440-06-4
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Diâmetro
    2", 3", 4", 5", 6" ou personalizado
    Espessura
    0,25", 0,125" ou personalizado
    Tipo de título
    Cobre ou personalizado
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de platina, alvo de Pt

    FAQ

    Quais são as vantagens de usar um alvo de pulverização de rutênio (Ru)?

    Os alvos de rutênio oferecem excelente uniformidade de película, alta pureza e estabilidade superior, tornando-os ideais para a deposição de películas finas de alta precisão em aplicações tecnológicas avançadas.

    Qual método de pulverização catódica é recomendado para esse alvo?

    O alvo é otimizado para pulverização por DC, garantindo desempenho consistente e formação confiável de filmes.

    Como é fabricado o alvo de pulverização de rutênio (Ru)?

    É produzido por meio de técnicas avançadas de fabricação que garantem alta pureza e precisão, desenvolvidas especificamente para atender às rigorosas exigências dos processos modernos de pulverização catódica.

    Este produto está disponível em formatos e tamanhos personalizados?

    Sim, além dos discos padrão, é possível produzir formatos e tamanhos personalizados para atender a requisitos específicos de aplicação.

    De que forma a alta pureza do alvo afeta seu desempenho na pulverização catódica?

    A alta pureza (≥99%) minimiza a contaminação durante a deposição, resultando em qualidade superior do filme, melhor adesão e propriedades elétricas consistentes no revestimento final.

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