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  • ST0039 Alvo de Sputtering de Rutênio (Ru)

    • ST0039 Alvo de Sputtering de Rutênio (Ru)

    Número de catálogo. ST0039
    Composição Ru
    Número CAS 7440-18-8
    Pureza ≥99%
    Forma Discos ou personalizados
    Diâmetro 2", 3", 4", 5", 6" ou personalizado
    Espessura 0,25", 0,125" ou personalizado
    Tipo de título Cobre ou personalizado
    Sinônimos Alvo de pulverização de rutênio, alvo de Ru

    O alvo de pulverização de rutênio (Ru) é bem conceituado por seu excelente desempenho na deposição de filmes finos e em aplicações microeletrônicas avançadas. A Stanford Advanced Materials é sinônimo de inovação e precisão, fornecendo materiais que excedem consistentemente os padrões do setor.

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    ST0039 Alvo de Sputtering de Rutênio (Ru)
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    Composição
    Ru
    Número CAS
    7440-18-8
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Diâmetro
    2", 3", 4", 5", 6" ou personalizado
    Espessura
    0,25", 0,125" ou personalizado
    Tipo de título
    Cobre ou personalizado
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de rutênio, alvo de Ru
     
    ST0022 Alvo de Sputtering de Irídio (Ir)
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    Composição
    Ir
    Número CAS
    7439-88-5
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Diâmetro
    2", 3", 4", 5", 6" ou personalizado
    Espessura
    0,25", 0,125" ou personalizado
    Tipo de título
    Cobre ou personalizado
    Sinônimos
    Alvo de irídio para pulverização catódica, alvo de irídio
     
    ST0035 Alvo de Sputtering de Platina (Pt)
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    Composição
    Pt
    Número CAS
    7440-06-4
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Diâmetro
    2", 3", 4", 5", 6" ou personalizado
    Espessura
    0,25", 0,125" ou personalizado
    Tipo de título
    Cobre ou personalizado
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de platina, alvo de Pt
     
    ST0038 Alvo de Sputtering de Ródio (Rh)
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    Composição
    Rh
    Número CAS
    7440-16-6
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
    Diâmetro
    2", 3", 4", 5", 6" ou personalizado
    Espessura
    0,25", 0,125" ou personalizado
    Tipo de título
    Cobre ou personalizado
    Sinônimos
    Alvo de pulverização de ródio, alvo de ródio

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    Silver (Ag) Sputtering Target
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    Tantalum Sputtering Target
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      • Outros
      • Other
      Espessura

      0,25''

      • 0,25''
      • 0,125''
      • Todos
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      Sim

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