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Substrato de SiO2/Si com revestimento de Ti CY3452

Número de catálogo. CY3452
Composição Ti, SiO2, Si
Dimensões 2, 4, 6, 8"
Espessura Ti: 15-100nm, ou personalizado

Substrato Ti revestido em SiO2/Si pode ser utilizado na área de nano, microscopia eletrônica de varredura (SEM), microscopia de força atômica (AFM) e outros tipos de microscopia de sonda de varredura. Stanford Advanced Materials (SAM) possui experiência na fabricação e fornecimento de produtos óticos de alta qualidade.

Produtos relacionados: Substrato Cu revestido em SiO2/Si, Substrato Ni revestido em SiO2/Si, Wafer de silício banhado a ouro, Wafer de silício banhado a Pt, Wafer de silício banhado a Ag

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