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WM3862 Filme de Diseleneto de Tungstênio CVD (WSe2)

Número de catálogo. WM3862
Material SiO2/Si, wafer de silício, PET, PI, ITO, FTO, vidro.
Dimensões 10*10, 15*15, 20*20 mm ou personalizado

Fornecemos Filmes de CVD de Disseleneto de Tungstênio em vários substratos, como: SiO2/Si, wafer de silício, PET, PI, ITO, FTO, vidro. Stanford Advanced Materials (SAM) possui experiência na fabricação e fornecimento de Filmes de CVD de Disseleneto de Tungstênio de alta qualidade.

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Especificação
SDS
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Material
SiO2/Si, wafer de silício, PET, PI, ITO, FTO, vidro.
Dimensões
10*10, 15*15, 20*20 mm ou personalizado
 
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Dimensões
>0,020 polegada
Material
Pure W
Pureza
99,95% a 99,999%
Densidade
18,2-19,0 g/cc
Formulário
Haste/Barra
Ponto de fusão
3422℃
 
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Dimensões
>1,5 mm x L x C
Material
Pure W
Pureza
W≥99.95%
Densidade
18,2-19,0 g/cc
Padrão
ASTM B760
 
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Dimensões
Personalizado
Material
W-Ni-Fe
Padrão
ASTM B777/ MIL-T-21014
Densidade
17,0-18,5 g/cc
Pureza
W 90-97%

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