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WM3862 Filme de Diseleneto de Tungstênio CVD (WSe2)

Número de catálogo. WM3862
Material SiO2/Si, wafer de silício, PET, PI, ITO, FTO, vidro.
Dimensões 10*10, 15*15, 20*20 mm ou personalizado
Método de fabricação Deposição de vapor químico (CVD)

Fornecemos Filmes de CVD de Disseleneto de Tungstênio em vários substratos, como: SiO2/Si, wafer de silício, PET, PI, ITO, FTO, vidro. Stanford Advanced Materials (SAM) possui experiência na fabricação e fornecimento de Filmes de CVD de Disseleneto de Tungstênio de alta qualidade.

Produtos relacionados: Filme de CVD de Telureto de Níquel (NiTe2), Filme de CVD de Seleneto de Bismuto (Bi2Se3), Filme de CVD de Disseleneto de Estanho (SnSe2)

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