CM18635 Placa de óxido de titânio (TiO₂) (N.º CAS: 13463-67-7)

Número de catálogo.	CM18635
Fórmula química	TiO₂
Formulário	Prato

A placa de óxido de titânio (TiO₂) é um material cerâmico de alta densidade e termicamente estável, utilizado principalmente na deposição de filmes finos e em revestimentos ópticos. A SAM processa esse material para alcançar alta uniformidade composicional e densidade mínima de defeitos. Oferecemos usinagem personalizada dessas placas para atender a configurações dimensionais exatas para diversos equipamentos de processamento.

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Titanium Oxide Plate TiO2 Plate (CAS No.: 13463-67-7)

Descrição da

Especificação

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Propriedade	Valor
Fórmula	TiO₂
Forma	Placa
Material	Dióxido de titânio
Sinônimos	Dióxido de titânio, titânia, óxido de titânio(IV)
Peso molecular	79,9378 g/mol
Ponto de fusão	1.843 °C (3.349 °F)
Densidade	4,23 g/cm³

Propriedade	Valor
Fórmula	TiO₂
Forma	Placa
Material	Dióxido de titânio
Sinônimos	Dióxido de titânio, titânia, óxido de titânio(IV)
Peso molecular	79,9378 g/mol
Ponto de fusão	1.843 °C (3.349 °F)
Densidade	4,23 g/cm³

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Prato

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Substrato

CM15768 Peça cerâmica de óxido de berílio

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Formulário

Peça personalizada

Pureza

99%

CE15762 Placa de hexaboreto de cério (placa de CeB₆)

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Dimensões

Personalizado

Formulário

Prato

FAQ

De que forma a composição de fases (rutilo versus anatase) de uma placa de TiO₂ afeta a deposição física de vapor?

A fase rutilo do TiO₂ apresenta maior estabilidade termodinâmica e densidade em comparação com a fase anatase. A deposição por pulverização catódica em uma placa de TiO₂ com predominância da fase rutilo resulta em filmes com alto índice de refração e altas constantes dielétricas, características essenciais para revestimentos ópticos e dispositivos microeletrônicos.

Qual é a importância da densidade do alvo na pulverização catódica de placas de óxido de titânio?

A alta densidade do alvo minimiza a geração de partículas e a formação de microarcos durante a deposição de filmes finos. Placas de baixa densidade costumam conter microvazios que retêm gás, levando a descargas localizadas. Placas totalmente densas mantêm taxas de deposição estáveis, espessura uniforme do filme e reprodutibilidade estequiométrica.

Quais medidas de gerenciamento térmico evitam o rachamento das placas de óxido de titânio durante o processo de pulverização catódica?

O óxido de titânio possui baixa condutividade térmica, o que o torna suscetível a choques térmicos sob alta potência. A utilização de ligação de índio a uma placa de suporte de cobre facilita a dissipação térmica. Os operadores também devem aplicar um aumento gradual da potência (por exemplo, <= 0,5 W/cm² por minuto) e manter um resfriamento a água eficiente.