CY8530 Substrato de cristal único de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (111) 5x5x0,5 mm

Substrato de cristal único de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (111) 5x5x0,5 mm Descrição

Experimente as propriedades excepcionais do substrato de cristal único de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (111), medindo 5×5×0,5 mm, projetado para aplicações de precisão. Sua estrutura cristalina oferece uma plataforma estável para deposição de filmes finos e crescimento epitaxial, garantindo alta reprodutibilidade em ambientes de pesquisa e fabricação. A orientação (111) oferece excelente controle sobre o alinhamento do cristal, levando a resultados confiáveis em estudos ópticos avançados, desenvolvimento de dispositivos semicondutores e projetos de ciência de superfície.

Nossos substratos de TiO2 rutilo atendem a rigorosos padrões de qualidade, proporcionando alta pureza, baixa densidade de defeitos e superfícies uniformes que suportam um desempenho consistente. Cada substrato passa por uma inspeção minuciosa para confirmar a excelente planicidade e integridade da superfície, tornando-o ideal para pesquisas de ponta em eletrônica, fotovoltaica e fotônica. Escolha o nosso substrato monocristalino de TiO2 (111) para se beneficiar da excelente estabilidade química, da cristalinidade superior e da confiabilidade comprovada de fabricação.

Substrato monocristalino de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (111) 5x5x0,5 mm Aplicações

Esse substrato monocristalino de dióxido de titânio (rutilo) com orientação (111) e dimensão de 5x5x0,5 mm oferece desempenho óptico e eletrônico confiável. Conhecido por seu alto índice de refração, excelente estabilidade química e baixa densidade de defeitos, esse substrato de TiO2 é ideal para o crescimento avançado de filmes finos, óptica de precisão e fabricação de dispositivos. Veja abaixo as possíveis aplicações que destacam seus recursos de ponta.

1. aplicações industriais

-Aplicação 1: Criação de camadas epitaxiais de alta qualidade para dispositivos semicondutores, aproveitando a estrutura cristalina robusta do substrato e a densidade mínima de defeitos.

-Aplicação 2: Revestimentos duráveis para superfícies resistentes à corrosão, beneficiando-se de sua excepcional estabilidade química e força de ligação.

2. aplicações de pesquisa

-Aplicação 1: experimentos de fotocatálise usando a excelente transparência óptica e o alto índice de refração do substrato para otimizar a absorção de luz.

-Aplicação 2: Desenvolvimento de plataformas de detecção avançadas que investigam as interações de superfície com a orientação consistente e uniforme (111) do cristal.

3. aplicações comerciais

-Aplicação 1: Soluções de revestimento óptico que aproveitam a clareza e o alto índice de refração do substrato para melhorar a transmissão de luz.

-Aplicação 2: Produção de tecnologias de exibição com eficiência energética que incorporam camadas precisas e uniformidade aprimorada de película fina.

Substrato monocristalino de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (111) 5x5x0,5 mm Embalagem

Cada substrato monocristalino de dióxido de titânio rutilo (111), com dimensões de 5×5×0,5 mm, é colocado com segurança entre camadas de espuma de grau de sala limpa e selado em uma bolsa antiestática. A embalagem é rotulada, resistente à umidade e inclui pacotes de sílica gel para manter a secura. Armazene em um ambiente fresco e sem poeira para evitar contaminação. Manuseie com as mãos enluvadas durante a transferência. Formatos de embalagem personalizados e opções de rotulagem estão disponíveis mediante solicitação, garantindo o transporte seguro e a identificação adequada da amostra.

Embalagem: Selada a vácuo, caixa de madeira ou personalizada.

Substrato de cristal único de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (111) 5x5x0,5 mm Perguntas frequentes

P1: Quais são as principais propriedades do material do substrato de cristal único de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (111) 5x5x0,5 mm?

A1: Esse substrato de TiO2 com estrutura rutilo oferece alto índice de refração, excelente estabilidade química e dureza mecânica robusta. Sua orientação cristalográfica (111) garante uma superfície lisa ideal para crescimento epitaxial e pesquisa óptica avançada. O substrato apresenta condutividade térmica moderada, o que lhe permite suportar temperaturas elevadas. Sua inércia química o torna resistente à maioria dos ácidos e bases, o que ajuda a manter a integridade estrutural durante vários processos de fabricação ou caracterização.

P2: Como esse produto deve ser manuseado e armazenado?

A2: O substrato de TiO2 (111) deve ser manuseado com luvas ou pinças limpas e sem fiapos para reduzir a contaminação e proteger sua superfície polida. Armazene-o em um ambiente de baixa umidade, de preferência em um recipiente selado com dessecante para evitar a absorção de umidade. Evite a exposição direta a contaminantes ou mudanças bruscas de temperatura. A limpeza regular do substrato com álcool isopropílico ou água deionizada pode ajudar a remover partículas e preservar a qualidade da superfície.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao substrato de cristal único de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (111) 5x5x0,5 mm?

R3: Fabricantes de renome seguem os padrões de gerenciamento de qualidade ISO 9001 para garantir a consistência e a rastreabilidade dos cristais únicos de TiO2. Os substratos passam por uma inspeção rigorosa quanto à precisão da orientação do cristal (normalmente ±0,5°), à qualidade do polimento da superfície (baixa rugosidade) e à densidade mínima de defeitos. Alguns fornecedores fornecem relatórios detalhados de metrologia que confirmam a orientação cristalográfica, a tolerância de espessura e o acabamento da superfície. Esses padrões do setor garantem desempenho confiável e reprodutibilidade em aplicações de pesquisa acadêmica e industrial.

Informações relacionadas

1. Propriedades e vantagens do material

Fabricado em um tamanho preciso de 5x5x0,5 mm, o substrato monocristalino de dióxido de titânio rutilo (TiO2) (111) apresenta um arranjo atômico altamente ordenado que proporciona clareza óptica superior. A dureza e a estabilidade térmica excepcionais desse substrato permitem que ele mantenha a integridade estrutural em condições desafiadoras, o que o torna uma opção confiável para pesquisas de semicondutores e fotônica. Sua notável transparência e absorção mínima em faixas de alta frequência destacam ainda mais seu status como um material altamente eficiente em instrumentos ópticos.

Promovendo a redução da densidade de deslocamento, o substrato de TiO2 orientado (111) cuidadosamente cultivado apresenta propriedades eletrônicas desejáveis. Essa superfície polida garante melhor adesão ao filme e crescimento epitaxial uniforme, resultando em um desempenho aprimorado do dispositivo. Pesquisadores e desenvolvedores confiam nesse substrato por sua espessura consistente e cristalinidade quase perfeita, essenciais para a exploração de fenômenos condutivos e fotônicos avançados em nanoescala.

2. Aplicações em setores avançados

Os fabricantes de semicondutores e fotônica procuram esse robusto substrato monocristalino de TiO2 para desenvolver tecnologias inovadoras de sensores capazes de detectar mudanças na intensidade da luz ou na condutividade com precisão. Suas propriedades de índice de refração, em conjunto com a orientação (111), tornam-no uma opção atraente para projetar revestimentos de interferência multicamadas usados em montagens ópticas especializadas. A combinação de características ópticas e elétricas exclusivas garante que esse substrato possa servir como a espinha dorsal de dispositivos de alta eficiência em pesquisas de ponta.

As empresas voltadas para o armazenamento e a conversão de energia se beneficiam significativamente da capacidade do substrato de resistir a temperaturas extremas sem perder sua integridade cristalográfica. Os processos de revestimento que envolvem a deposição de filmes finos ou camadas epitaxiais prosperam na superfície lisa do substrato, promovendo heteroestruturas confiáveis em células solares e células de combustível de óxido sólido. Ao aproveitar suas características distintas, os setores avançados podem ampliar os limites de desempenho em várias tecnologias de última geração.