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    • ST11177 Alvo rotativo de cobalto, alvo de cobalto

    Número de catálogo. ST11177
    Composição Co
    Pureza ≥99,99%, ou personalizado
    Formulário Alvo
    Forma Tubular
    Dimensões Personalizado

    O alvo rotativo de cobalto, Co Target, é um alvo de sputtering fabricado a partir de cobalto para processos de deposição física de vapor. A Stanford Advanced Materials (SAM) aplica um rigoroso controle de qualidade usando microscopia eletrônica e métodos de análise espectral para confirmar a pureza do material e a consistência da microestrutura. A SAM usa testes repetitivos de lotes e instrumentação calibrada, garantindo que cada alvo atenda aos critérios definidos de composição e desempenho específicos para aplicações de pulverização catódica.

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    Cobalt Rotary Target, Co Target
    Cobalt Rotary Target, Co Target
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    ST11177 Alvo rotativo de cobalto, alvo de cobalto
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    Composição
    Co
    Pureza
    ≥99,99%, ou personalizado
    Formulário
    Alvo
    Forma
    Tubular
    Dimensões
    Personalizado
     
    NN0247 Nano Cobalto em pó (Co) (número CAS 7440-48-4)
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    Número CAS
    7440-48-4
    Fórmula química
    Co
    APS
    50-300nm
    Formulário
    Pó preto
    Pureza
    99.9%
     
    CP0248 Micro Cobalto em pó (Co) (número CAS 7440-48-4)
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    Número CAS
    7440-48-4
    Fórmula química
    Co
    Formulário
    Pólvora negra
    Pureza
    ≥99,9%
    Tamanho da partícula
    - malha 200, - malha 325 ou sob medida
    Sinônimos
    Pó de cobalto micro, pó de Co em microns
     
    CT0985 Folha de cobalto (Co Foil)
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    Número CAS
    7440-48-4
    Densidade a granel
    8.71 g/cm3
    Ponto de fusão
    1768.15 K
    Espessura
    >=0,03mm
    Pureza
    99.98%

    FAQ

    Como a composição do cobalto influencia o comportamento do sputtering nos processos de deposição?

    A composição do cobalto afeta a taxa de erosão e a uniformidade durante a pulverização catódica. Uma composição elementar controlada garante uma erosão previsível, o que é essencial para a deposição consistente de filmes finos na fabricação de semicondutores. Para obter diretrizes detalhadas de processamento, entre em contato conosco.

    Que medidas são tomadas para controlar a microestrutura do alvo rotativo durante a produção?

    O processo de produção envolve tratamentos térmicos calibrados e inspeções pós-processamento usando microscopia eletrônica de varredura. Essas etapas minimizam as inconsistências microestruturais, garantindo que a uniformidade da camada e as taxas de deposição atendam aos requisitos específicos da aplicação.

    As dimensões do alvo podem ser personalizadas para atender a requisitos específicos do equipamento?

    Sim, as dimensões são oferecidas como opções personalizadas. Os clientes podem especificar os tamanhos necessários para garantir a compatibilidade com seus equipamentos de deposição. Para obter mais detalhes sobre a personalização das dimensões, entre em contato conosco.

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    NN0247 Nano Cobalto em pó (Co) (número CAS 7440-48-4)
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    CO6124 Cobalt Honeycomb
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