Alvo rotativo de níquel ST11201, alvo de Ni

Descrição do alvo rotativo de níquel, alvo de Ni

O alvo rotativo de níquel, alvo de Ni, é um alvo de sputtering fabricado com níquel elementar (Ni) de alta pureza. A configuração rotativa do alvo garante a erosão uniforme do material e a dissipação eficiente do calor durante o processo de pulverização. As especificações dimensionais personalizadas permitem a compatibilidade com vários sistemas de deposição, promovendo a espessura consistente do filme e a deposição uniforme. Essas características técnicas contribuem diretamente para a estabilidade do processo e a integração do equipamento.

Características do alvo rotativo de níquel, alvo de Ni

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo rotativo de níquel, aplicações de alvo de Ni

1.eletrônica
- Usado como fonte de sputtering na deposição de filmes finos de semicondutores para obter um crescimento uniforme do filme, aproveitando o movimento rotativo do alvo.
- Aplicado como elemento de revestimento na fabricação de painéis de exibição para garantir uma cobertura uniforme por meio de erosão consistente.

2.processamento industrial
- Empregado como alvo de revestimento em sistemas de modificação de superfície para aumentar a resistência à corrosão, utilizando a deposição uniforme proporcionada pela ação rotativa.
- Usado em sistemas de deposição a vácuo para a fabricação de componentes resistentes à corrosão, obtendo espessura uniforme do filme e melhor controle do processo.

3.pesquisa e desenvolvimento
- Implementado em experimentos de sputtering analítico para estudar a dinâmica de deposição aplicando características de erosão controladas.
- Utilizado em projetos de escala laboratorial para investigar os efeitos do design do alvo na morfologia do filme, beneficiando-se das dimensões personalizáveis.

Embalagem do alvo rotativo de níquel, alvo de Ni

O alvo rotativo de níquel é embalado em um invólucro protetor antiestático e preso em contêineres revestidos de espuma para evitar danos mecânicos e contaminação da superfície. A embalagem é projetada para minimizar a exposição à umidade e às partículas transportadas pelo ar. O armazenamento recomendado é em um ambiente controlado e seco. Opções para embalagens personalizadas, incluindo vedação a vácuo e rotulagem específica, estão disponíveis mediante solicitação.

Informações adicionais

O níquel continua sendo um material essencial no campo da deposição por pulverização catódica devido às suas excelentes propriedades elétricas e térmicas. A compreensão do comportamento do níquel durante os processos de alta energia fornece informações para otimizar a uniformidade e a adesão do filme em várias aplicações industriais.

Além disso, o design dos alvos de pulverização catódica desempenha um papel importante na adaptação das características de deposição. Os avanços nas configurações de alvos rotativos permitem a erosão consistente e a transferência controlada de material, dando suporte à fabricação de filmes de alta precisão em eletrônica, engenharia de superfície e ambientes de pesquisa.