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CY9489 300 mm Tipo P (dopado com B) Substrato de wafer de silício Grau de teste (100), DSP, 1-100 ohm-cm

Número de catálogo. CY9489
Material Si
Forma Disco
Formulário Substrato

O substrato de wafer de silício tipo P (dopado com B) de 300 mm, grau de teste (100), DSP, 1-100 ohm-cm é um substrato de silício produzido para testes de semicondutores com uma orientação cristalográfica (100) controlada. A Stanford Advanced Materials (SAM) utiliza um regime rigoroso de dopagem de boro e técnicas de avaliação de defeitos em linha, incluindo imagens de alta resolução, para garantir valores de resistividade entre 1 e 100 ohm-cm. O tratamento DSP minimiza ainda mais as imperfeições da superfície, o que é essencial para avaliações precisas do desempenho elétrico.

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300 mm P Type (B-doped) Silicon Wafer Substrate Test Grade <100>, DSP, 1-100 ohm·cm
300 mm P Type (B-doped) Silicon Wafer Substrate Test Grade <100>, DSP, 1-100 ohm·cm
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Material
Si
Forma
Disco
Formulário
Substrato
 
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Pureza
99.9%
Número CAS
12039-79-1
Peso molecular
237.12
Densidade
9,14 g/cm3
 
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Número CAS
12033-89-5
Fórmula química
Si3N4
Tamanho da partícula
Personalizado
Aparência
Pó branco-acinzentado
Pureza
≥99%
Sinônimos
Nitreto de silício em pó, Si3N4 em pó
 
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Número CAS
12033-89-5
APS
~100 nm
Formulário
Pó branco-acinzentado
Pureza
99.9%
Sinônimos
Nano nitreto de silício em pó, nanopó de Si3N4

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