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  • ST11215 Alvo planar de carboneto de tântalo, alvo TaC

    • ST11215 Alvo planar de carboneto de tântalo, alvo TaC

    Número de catálogo. ST11215
    Composição TaC
    Pureza ≥99,9%, ou personalizado
    Formulário Alvo
    Forma Retangular
    Dimensões Personalizado

    O alvo planar de carbeto de tântalo, alvo TaC, é fabricado usando sinterização reativa controlada para produzir uma microestrutura uniforme adequada para aplicações de pulverização. A Stanford Advanced Materials (SAM) emprega microscopia eletrônica e difração de raios X em seu processo de controle de qualidade para verificar as tolerâncias de composição e a estrutura de grãos. Essa metodologia ajuda a obter a consistência microestrutural necessária para a deposição reprodutível do filme.

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    Tantalum Carbide Planar Target, TaC Target
    Tantalum Carbide Planar Target, TaC Target
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    ST11215 Alvo planar de carboneto de tântalo, alvo TaC
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    Composição
    TaC
    Pureza
    ≥99,9%, ou personalizado
    Formulário
    Alvo
    Forma
    Retangular
    Dimensões
    Personalizado
     
    CY0027 Pastilhas de tantalato de lítio (pastilhas de LiTaO3)
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    Pureza
    99.9%
    Número CAS
    12031-66-2
    Espessura
    0,35-1 mm
    Sinônimos
    Pastilha de tantalato de lítio, pastilha de LiTaO3
     
    TA1001 Cristal único de tântalo (cristal único Ta)
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    Pureza
    99.99%
    Dimensões
    Personalizado
    Orientação
    (100), (110) e (111)
    Sinônimos
    Cristal único de tântalo, cristal único de Ta
     
    CY2298 Substratos de cristal de tantalato de potássio (KTaO₃)
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    Dimensões
    20 x 20 x 0,5 mm, 10 x 10 x 0,5 mm, 5 x 5 x 0,5 mm
    Material
    KTaO₃
    Orientação
    <100>, <110>, <111>
    Método de crescimento
    Método de Czochralski

    FAQ

    Como a microestrutura do alvo de TaC influencia seu desempenho de pulverização?

    A microestrutura afeta diretamente o rendimento do sputter e a uniformidade da deposição do filme. Uma distribuição de grãos bem controlada permite uma erosão estável durante a pulverização, minimizando assim a geração de partículas e garantindo características previsíveis de filme fino. Para obter mais detalhes, entre em contato conosco.

    Quais métodos de controle de qualidade são implementados durante a fabricação do TaC Target?

    O controle de qualidade inclui microscopia eletrônica e análise de difração de raios X para verificar a integridade microestrutural e a tolerância da composição. Essas avaliações ajudam a detectar variações no tamanho e na densidade dos grãos, garantindo que o alvo atenda aos requisitos rigorosos dos processos de pulverização catódica. Para obter mais informações, entre em contato conosco.

    Como a opção de dimensão personalizável afeta a compatibilidade com os sistemas de pulverização catódica?

    As dimensões personalizáveis permitem que o alvo seja adaptado a geometrias específicas da câmara. Essa flexibilidade garante o alinhamento adequado com o equipamento de deposição, facilitando a erosão uniforme na superfície do alvo durante a pulverização catódica. Para obter especificações técnicas adicionais, entre em contato conosco.

    ÚLTIMAS RECOMENDAÇÕES

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