ST11215 Alvo planar de carboneto de tântalo, alvo TaC

Descrição do alvo planar de carboneto de tântalo, alvo de TaC

O alvo planar de carboneto de tântalo, alvo de TaC, é composto de TaC de alta pureza projetado para processos de pulverização catódica. Fabricado por sinterização reativa, o alvo desenvolve uma microestrutura densa que minimiza os artefatos de contorno de grão. Suas dimensões adaptáveis permitem uma integração perfeita em vários sistemas de pulverização. A inércia química e a estabilidade térmica do TaC permitem a deposição precisa do filme e minimizam a contaminação durante o processamento.

Características do alvo planar de carbeto de tântalo, alvo de TaC

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo planar de carboneto de tântalo, aplicações de alvo de TaC

Eletrônicos
- Usado como fonte de deposição na fabricação de semicondutores para obter revestimentos condutores uniformes, aproveitando uma microestrutura controlada.
- Aplicado como fonte de sputtering no processamento de painéis de exibição para obter propriedades ópticas consistentes graças à sua composição química estável.

Industrial
- Empregado em sistemas de revestimento para aumentar a resistência ao desgaste em equipamentos de ferramentas, utilizando sua alta estabilidade térmica para a formação precisa de filmes.

Alvo planar de carbeto de tântalo, embalagem do alvo de TaC

O alvo é embalado em um recipiente selado revestido com uma barreira inerte para reduzir os riscos de contaminação. Os suportes de amortecimento de vibração e os sacos de barreira contra umidade protegem contra tensões mecânicas e ambientais. O armazenamento em um ambiente seco e com temperatura controlada é essencial para manter a integridade do material. Opções de embalagem personalizadas - incluindo selos invioláveis e rotulagem especializada - estão disponíveis mediante solicitação.

Informações adicionais

O carbeto de tântalo é frequentemente estudado por sua combinação exclusiva de estabilidade térmica e inércia química. Os pesquisadores se concentram em refinar os processos de sinterização para controlar a microestrutura, que influencia diretamente o desempenho dos sistemas de pulverização. Os avanços no processamento de materiais possibilitaram a obtenção de estruturas de grãos reproduzíveis que atendem às rigorosas demandas industriais.

Os cientistas de materiais também examinam as características de deposição dos alvos de TaC para melhorar a uniformidade do filme e as taxas de deposição. Esses estudos contribuem para o controle aprimorado do processo em aplicações de película fina, garantindo que os materiais tenham um desempenho previsível em várias condições operacionais.