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VD0724 Materiais de evaporação de dióxido de silício, SiO2

Número de catálogo. VD0724
Material Dióxido de silício (SiO2)
Pureza 99.9% ~ 99.995%
Forma Pó/grânulo/ personalizado
MSDS / SDS

Os materiais de evaporação de dióxido de silício fornecidos pela Stanford Advanced Materials são utilizados em processos de deposição de filmes finos, nos quais o SiO2 é evaporado em substratos para criar filmes com propriedades ópticas, elétricas e mecânicas personalizadas, cruciais para aplicações em semicondutores, óptica e revestimentos de proteção.

Produtos relacionados: Materiais de evaporação de silício (Si) (tipo N), Materiais de evaporação de alumínio e silício-cobre (Al/Si/Cu)

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