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ST11195 Alvo plano de carboneto de molibdênio, alvo de Mo2C

Número de catálogo. ST11195
Composição Mo2C
Pureza ≥99,9%, ou personalizado
Formulário Alvo
Forma Retangular
Dimensões Personalizado

O alvo planar de carboneto de molibdênio, Mo2C, é um alvo de pulverização projetado a partir de carboneto de molibdênio (Mo2C) para aplicações de deposição de filmes finos. A Stanford Advanced Materials (SAM) emprega metalurgia do pó controlada e inspeção pós-sinterização usando SEM e XRD para monitorar a uniformidade microestrutural e a composição. Essa abordagem minimiza os desvios nas propriedades-alvo, apoiando assim processos consistentes de deposição de filmes.

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FAQ

Como a estrutura plana uniforme do alvo de Mo2C afeta a deposição do filme?

A estrutura plana minimiza as variações locais de espessura durante a pulverização. Essa uniformidade ajuda a obter propriedades consistentes do filme em todo o substrato, reduzindo assim os desvios do processo e aumentando a repetibilidade durante a formação do filme fino.

Que medidas de controle de qualidade são implementadas para essa meta?

O SAM emprega técnicas de SEM e XRD para verificar a consistência microestrutural e a composição química. Essas medições garantem que o alvo atenda às tolerâncias específicas de composição, o que é fundamental para obter processos de pulverização repetitivos.

O alvo pode ser personalizado para sistemas de pulverização específicos?

Sim, as dimensões do alvo estão disponíveis em configurações personalizadas. Essa flexibilidade permite que os usuários finais adaptem o alvo às dimensões específicas da câmara de pulverização e aos requisitos operacionais, oferecendo suporte a uma ampla gama de aplicações de deposição. Entre em contato conosco para obter detalhes sobre a configuração.

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