ST11200 Alvo rotativo de óxido de nióbio, alvo de NbOx

Descrição do alvo rotativo de óxido de nióbio, alvo de NbOx

O alvo rotativo de óxido de nióbio, alvo de NbOx, foi desenvolvido para processos de sputtering na deposição de filmes finos. Fabricado com técnicas de sinterização de precisão, o alvo oferece microestrutura controlada e uniformidade de composição que contribuem para taxas de deposição consistentes. Suas dimensões personalizáveis permitem a integração com equipamentos padrão de semicondutores e de revestimento. Tratamentos detalhados de superfície reduzem a densidade de defeitos, tornando-o aplicável a aplicações avançadas de revestimento catalítico e resistente à corrosão.

Características do alvo rotativo de óxido de nióbio, alvo de NbOx

*As informações sobre o produto acima são baseadas em dados teóricos e servem apenas como referência. As especificações reais podem variar.

Alvo rotativo de óxido de nióbio, aplicações de alvo de NbOx

Eletrônicos
- Usado como alvo de pulverização na deposição de filmes finos de semicondutores para obter uma espessura uniforme do filme, aproveitando a microestrutura controlada.

Indústria
- Aplicado como material de revestimento em tratamentos resistentes à corrosão para atenuar a degradação, utilizando suas propriedades de óxido inerte.

Processos catalíticos
- Serve como suporte de catalisador em reatores químicos para aumentar a eficiência da reação, fornecendo uma superfície estável e consistente.

Alvo rotativo de óxido de nióbio, embalagem de alvo de NbOx

O alvo é embalado em uma caixa antiestática revestida de espuma com inserções purgadas com gás inerte para evitar impacto físico e contaminação. Ele é selado para minimizar a oxidação e armazenado em condições de temperatura controlada e baixa umidade. Opções de embalagens personalizadas estão disponíveis para atender a requisitos específicos de manuseio e transporte para ambientes controlados.

Informações adicionais

Os alvos de pulverização catódica desempenham um papel fundamental nos processos avançados de deposição de filmes finos. Compreender a relação entre a composição do alvo e a uniformidade da deposição é essencial para obter características precisas do filme. O óxido de nióbio, em particular, é notável por sua estabilidade química e microestrutura controlada, o que o torna adequado para aplicações industriais exigentes.

Os avanços na ciência dos materiais permitiram o aprimoramento das técnicas de síntese que melhoram o desempenho dos alvos à base de óxido. As rigorosas avaliações de qualidade, como a difração de raios X e a microscopia eletrônica, fornecem percepções mais profundas sobre o comportamento do material durante os processos de pulverização catódica, o que beneficia os ambientes de pesquisa e de fabricação industrial.