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    • ST11467 Alvo de silício de titânio, alvo de TiSi

    Número de catálogo. ST11467
    Composição TiSi
    Forma Redondo, retangular, personalizado
    Formulário Alvo
    Pureza Ti+Si: ≥99%

    O alvo de silício de titânio, TiSi, é produzido para processos de pulverização em aplicações de filmes finos. Fabricado pela Stanford Advanced Materials (SAM), ele apresenta uma composição uniforme de TiSi verificada por meio de imagens de SEM e profilometria a laser. A SAM utiliza testes rigorosos de lote e microanálise para minimizar contaminantes e garantir propriedades consistentes do material. O ambiente de processamento controlado dá suporte à reprodutibilidade essencial em técnicas avançadas de deposição.

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    Titanium Silicon Target, TiSi Target
    Titanium Silicon Target, TiSi Target
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    ST11467 Alvo de silício de titânio, alvo de TiSi
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    Composição
    TiSi
    Forma
    Redondo, retangular, personalizado
    Formulário
    Alvo
    Pureza
    Ti+Si: ≥99%
     
    NB0036 Alvo de nióbio, alvo de Nb
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    Dimensões
    Alvos circulares Diâmetro 10-400 mm Espessura 2-28
    Material
    R04200 R04210
    Número CAS
    7440-03-1
    Densidade
    8,57 g/cm3
    Formulário
    Alvo
    Pureza
    ≥99.9%
     
    ST0047 Alvos e discos de pulverização de liga de nióbio e zircônio
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    Material
    R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)
    Dimensões
    Alvos circulares: diâmetro de 10 a 400 mm; espessura de 2 a 28 mm
    Pureza
    99,9% 99,95% 99,99%
     
    ST0056 Alvos de liga de nióbio-hafnío (NbHf)
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    Dimensões
    Diâmetro: 10-400 mm, ou sob medida
    Material
    Nb-10Hf
    Formulário
    Alvo, Disco

    FAQ

    Quais parâmetros do processo de deposição devem ser considerados ao usar esse alvo?

    O processo de pulverização com esse alvo requer um controle cuidadoso da densidade de potência e da pressão da câmara. Os ajustes na potência de RF ou CC influenciam a uniformidade e a estequiometria do filme. O monitoramento da temperatura do substrato pode otimizar ainda mais a aderência do filme.

    Como a microestrutura do alvo é verificada?

    O alvo é submetido a imagens de SEM e perfilometria a laser para avaliar a uniformidade da superfície e detectar possíveis defeitos. Essas verificações ajudam a manter a consistência durante a pulverização e reduzem a contaminação por partículas no filme depositado.

    O alvo pode ser personalizado para atender aos requisitos específicos do sistema de pulverização catódica?

    Sim, estão disponíveis opções de personalização para tolerâncias de tamanho e usinagem. A personalização desses parâmetros garante a compatibilidade com vários sistemas de deposição e dá suporte à reprodutibilidade do processo. Para obter opções detalhadas de personalização, entre em contato conosco.

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    https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg
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    sc/1747042841-normal-ST0013.jpg
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      0,25''

      • 0,25''
      • 0,125''
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