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  • ST0028 Alvo de Sputtering de Magnésio (Mg)

    • ST0028 Alvo de Sputtering de Magnésio (Mg)

    Número de catálogo. ST0028
    Composição Mg
    Número CAS 7439-95-4
    Pureza ≥99%
    Forma Discos ou personalizados

    O alvo de sputtering de Magnésio (Mg) oferece desempenho e uniformidade excepcionais, tornando-se uma escolha preferida para aplicações avançadas de sputtering. A Stanford Advanced Materials dedica-se à engenharia de precisão e à entrega de materiais inovadores da mais alta qualidade.

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    Magnesium (Mg) Sputtering Target
    Magnesium (Mg) Sputtering Target
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    ST0028 Alvo de Sputtering de Magnésio (Mg)
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    Composição
    Mg
    Número CAS
    7439-95-4
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Discos ou personalizados
     
    NB0036 Alvo de nióbio, alvo de Nb
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    Dimensões
    Alvos circulares Diâmetro 10-400 mm Espessura 2-28
    Material
    R04200 R04210
    Número CAS
    7440-03-1
    Densidade
    8,57 g/cm3
    Formulário
    Alvo
    Pureza
    ≥99.9%
     
    ST0047 Alvos e discos de pulverização de liga de nióbio e zircônio
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    Material
    R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)
    Dimensões
    Alvos circulares: diâmetro de 10 a 400 mm; espessura de 2 a 28 mm
    Pureza
    99,9% 99,95% 99,99%
     
    ST0056 Alvos de liga de nióbio-hafnío (NbHf)
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    Dimensões
    Diâmetro: 10-400 mm, ou sob medida
    Material
    Nb-10Hf
    Formulário
    Alvo, Disco

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    sc/1747042841-normal-ST0013.jpg
    ST0013 Alvo de Sputtering de Érbio (Er)
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    Brasil

      Pureza

      99.9%

      • 99.9%
      • 99.5%
      • 99.99%
      • 99.999%
      • Other
      Diâmetro

      2''

      • 2''
      • 3''
      • 4''
      • 5''
      • 6''
      • Outros
      • Other
      Espessura

      0,25''

      • 0,25''
      • 0,125''
      • Todos
      • Other
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      • Sim
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