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ST0269 Alvo de Sputtering de Siliceto de Tungstênio (WSi2)

Número de catálogo. ST0269
Composição WSi₂
Número CAS 12039-88-2
Pureza ≥99%
Forma Discos ou personalizados

A Stanford Advanced Materials é comprometida em fornecer materiais avançados para aplicações industriais. Nossos alvos de sputtering de silício de tungstênio são fabricados sob rigorosos padrões de qualidade para garantir desempenho confiável em ambientes exigentes.

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Tungsten Silicide (WSi2) Sputtering Target
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Descrição da
Especificação
SDS
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Composição
WSi₂
Número CAS
12039-88-2
Pureza
≥99%
Forma
Discos ou personalizados
 
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Dimensões
Alvos circulares Diâmetro 10-400 mm Espessura 2-28
Material
R04200 R04210
Número CAS
7440-03-1
Densidade
8,57 g/cm3
Formulário
Alvo
Pureza
≥99.9%
 
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Material
R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)
Dimensões
Alvos circulares Diâmetro de 10 a 400 mm Espessura de 2 a 28 mm
Pureza
99.9% 99.95% 99.99%
 
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Material
90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
Pureza
>=99.99%
Densidade
7,1g/cm3

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País*

Brasil

    Pureza

    99.9%

    • 99.9%
    • 99.5%
    • 99.99%
    • 99.999%
    • Other
    Diâmetro

    2''

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    • 3''
    • 4''
    • 5''
    • 6''
    • Outros
    • Other
    Espessura

    0,25''

    • 0,25''
    • 0,125''
    • Todos
    • Other
    Vinculação

    Sim

    • Sim
    • Não
    • Other

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