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  • Alvo de Sputtering de Cobre (Cu) Planar ST0403

    • Alvo de Sputtering de Cobre (Cu) Planar ST0403

    Número de catálogo. ST0403
    Composição Cu
    Número CAS 7440-50-8
    Pureza ≥99%
    Forma Planar ou feito sob medida

    O alvo de sputtering de cobre (Cu) planar é oferecido pela Stanford Advanced Materials, uma marca reconhecida por sua dedicação à qualidade em materiais avançados. Com décadas de experiência, a Stanford Advanced Materials fornece soluções de alto desempenho que atendem às exigências das aplicações industriais modernas.

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    Alvo de Sputtering de Cobre (Cu) Planar ST0403
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    Composição
    Cu
    Número CAS
    7440-50-8
    Pureza
    ≥99%
    Forma
    Planar ou feito sob medida
     
    NB0036 Alvo de nióbio, alvo de Nb
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    Dimensões
    Alvos circulares Diâmetro 10-400 mm Espessura 2-28
    Material
    R04200 R04210
    Número CAS
    7440-03-1
    Densidade
    8,57 g/cm3
    Formulário
    Alvo
    Pureza
    ≥99.9%
     
    ST0047 Alvos e discos de pulverização de liga de nióbio e zircônio
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    Material
    R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)
    Dimensões
    Alvos circulares: diâmetro de 10 a 400 mm; espessura de 2 a 28 mm
    Pureza
    99,9% 99,95% 99,99%
     
    ST0056 Alvos de liga de nióbio-hafnío (NbHf)
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    Dimensões
    Diâmetro: 10-400 mm, ou sob medida
    Material
    Nb-10Hf
    Formulário
    Alvo, Disco

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    sc/1747042841-normal-ST0013.jpg
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      • Other
      Diâmetro

      2''

      • 2''
      • 3''
      • 4''
      • 5''
      • 6''
      • Outros
      • Other
      Espessura

      0,25''

      • 0,25''
      • 0,125''
      • Todos
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      Sim

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