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  • ST6843 Alvos rotativos de silício, alvo de Si

    • ST6843 Alvos rotativos de silício, alvo de Si

    Número de catálogo. ST6843
    Material Si
    Dimensões Personalizado
    Formulário Alvo rotativo ou personalizado
    Pureza ≥99,9%, ou personalizado

    A Stanford Advanced Materials (SAM) fornece alvos rotativos de silício de alta qualidade, projetados para aplicações de sputtering de alto desempenho. Esses alvos oferecem excelente estabilidade, durabilidade e eficiência, o que os torna ideais para a produção de filmes finos em eletrônicos, painéis solares e outros materiais avançados.

    Produtos relacionados: Alvo rotativo de liga de molibdênio e nióbio, alvo rotativo de molibdênio

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    Silicon Rotary Targets, Si Target
    Silicon Rotary Targets, Si Target
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    ST6843 Alvos rotativos de silício, alvo de Si
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    Material
    Si
    Dimensões
    Personalizado
    Formulário
    Alvo rotativo ou personalizado
    Pureza
    ≥99,9%, ou personalizado
     
    NB0036 Alvo de nióbio, alvo de Nb
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    Dimensões
    Alvos circulares Diâmetro 10-400 mm Espessura 2-28
    Material
    R04200 R04210
    Número CAS
    7440-03-1
    Densidade
    8,57 g/cm3
    Formulário
    Alvo
    Pureza
    ≥99.9%
     
    ST0047 Alvos e discos de pulverização de liga de nióbio e zircônio
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    Material
    R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)
    Dimensões
    Alvos circulares: diâmetro de 10 a 400 mm; espessura de 2 a 28 mm
    Pureza
    99,9% 99,95% 99,99%
     
    ST0056 Alvos de liga de nióbio-hafnío (NbHf)
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    Dimensões
    Diâmetro: 10-400 mm, ou sob medida
    Material
    Nb-10Hf
    Formulário
    Alvo, Disco

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    sc/1747042841-normal-ST0013.jpg
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      • 99.9%
      • 99.5%
      • 99.99%
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      • Other
      Diâmetro

      2''

      • 2''
      • 3''
      • 4''
      • 5''
      • 6''
      • Outros
      • Other
      Espessura

      0,25''

      • 0,25''
      • 0,125''
      • Todos
      • Other
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      Sim

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