ST6546 Alvo Plana de Liga de Molibdênio e Nióbio

Name: ST6546 Molybdenum Niobium Alloy Planar Target
SKU: ST6546
Availability: InStock
Rating: 4.9 (166 reviews)

Número de catálogo.	ST6546
Dimensões	Personalizado
Composição	MoNb5 94,85-95,05% MoNb10 89,85-90,05%
Densidade	MoNb5 ≥10,00 g/cm3 MoNb10 ≥9,90 g/cm3

Stanford Advanced Materials (SAM) fornece Alvos de Sputtering Planar de Liga de Molibdênio-Nióbio (MoNb) de alta qualidade, oferecendo estabilidade térmica, resistência à corrosão e deposição uniforme de filmes finos. Personalizáveis em composição e tamanho, esses alvos garantem desempenho confiável para aplicações de revestimento avançadas.

Outras formas: Alvo Rotativo de Liga de Molibdênio-Nióbio

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ST6546 Alvo Plana de Liga de Molibdênio e Nióbio

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Dimensões

Personalizado

Composição

MoNb5 94,85-95,05% MoNb10 89,85-90,05%

Densidade

MoNb5 ≥10,00 g/cm3 MoNb10 ≥9,90 g/cm3

NB0036 Alvo de nióbio, alvo de Nb

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Dimensões

Alvos circulares Diâmetro 10-400 mm Espessura 2-28

Material

R04200 R04210

Número CAS

7440-03-1

Densidade

8,57 g/cm3

Formulário

Alvo

Pureza

≥99.9%

ST0047 Alvos e discos de pulverização de liga de nióbio e zircônio

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Material

R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)

Dimensões

Alvos circulares: diâmetro de 10 a 400 mm; espessura de 2 a 28 mm

Pureza

99,9% 99,95% 99,99%

ST0056 Alvos de liga de nióbio-hafnío (NbHf)

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Dimensões

Diâmetro: 10-400 mm, ou sob medida

Material

Nb-10Hf

Formulário

Alvo, Disco

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*Código de controlo

Composição Química		MoNb5	MoNb10
Conteúdo Principal, %, min Mo	Mo	94.85-95.05	89.85-90.05
Conteúdo Principal, %, min Mo	Nb	5.00±0.1	10.00±0.1
Conteúdo de Impureza (massa), %, máx	Al	0.0050	0.0050
	Cr	0.0050	0.0050
	Cu	0.0050	0.0050
	Fe	0.0100	0.0100
	Ni	0.0050	0.0050
	Si	0.0060	0.0060
	C	0.0150	0.0150
	O	0.0800	0.0800
	N	0.0300	0.0300

Característica	Alvo Rotativo de Molibdênio-Nióbio	Alvo Planar de Molibdênio-Nióbio
Utilização do Material	Até 80-90%	Cerca de 30-40%
Duração do Serviço	Mais longa, reduzindo a frequência de substituição	Mais curta, exigindo substituições mais frequentes
Uniformidade do Revestimento	Mais uniforme, ideal para revestimentos de grandes áreas	Pode ter variações de espessura
Custo de Produção	Custo inicial mais alto, mas mais econômico a longo prazo	Custo inicial mais baixo, mas requer mudanças mais frequentes
Aplicações	Revestimentos de grandes áreas (TFT-LCD, células solares, revestimentos ópticos)	Revestimentos de pequenas áreas (semicondutores, eletrônicos de precisão)
Estabilidade de Sputtering	Mais estável, reduzindo a perda de material	Potencialmente menos estável devido à erosão desigual
Equipamentos Compatíveis	Requer sistemas de sputtering rotativos	Compatível com sistemas de sputtering plano tradicionais

Composição Química		MoNb5	MoNb10
Conteúdo Principal, %, min Mo	Mo	94.85-95.05	89.85-90.05
Conteúdo Principal, %, min Mo	Nb	5.00±0.1	10.00±0.1
Conteúdo de Impurezas (fração de massa), %, max	Al	0.0050	0.0050
	Cr	0.0050	0.0050
	Cu	0.0050	0.0050
	Fe	0.0100	0.0100
	Ni	0.0050	0.0050
	Si	0.0060	0.0060
	C	0.0150	0.0150
	O	0.0800	0.0800
	N	0.0300	0.0300

Region & Language

North America

South America

Europe

Asia Pacific

Middle-East

ST6546 Alvo Plana de Liga de Molibdênio e Nióbio

Descrição do Alvo Planar de Liga de Molibdênio-Nióbio

Especificação do Alvo Planar de Liga de Molibdênio-Nióbio

Aplicações do Alvo Planar de Liga de Molibdênio-Nióbio

Embalagem do Alvo Planar de Liga de Molibdênio-Nióbio

Processo de Fabricação

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