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  • Alvo de Tântalo Tungstênio ST6586 (Alvo TaW)

    • Alvo de Tântalo Tungstênio ST6586 (Alvo TaW)

    Número de catálogo. ST6586
    Material Ta, W
    Pureza 99.95%
    Forma Disco planar

    Target de Tântalo Tungstênio (Target TaW) da Stanford Advanced Materials é um material de pulverização durável e de alta performance que combina a excelente resistência à corrosão do tântalo com o alto ponto de fusão do tungstênio, ideal para deposição de filmes finos em aplicações de alta temperatura e ambientes severos.

    Produtos Relacionados: Target de Pulverização de Tântalo, Ta, Target de Pulverização de Alumínio de Tântalo, Ta/Al, Target de Pulverização de Tungstênio, W, Target de Pulverização de Tungstênio de Níquel, Ni/W

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    Alvo de Tântalo Tungstênio ST6586 (Alvo TaW)
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    Material
    Ta, W
    Pureza
    99.95%
    Forma
    Disco planar
     
    NB0036 Alvo de nióbio, alvo de Nb
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    Dimensões
    Alvos circulares Diâmetro 10-400 mm Espessura 2-28
    Material
    R04200 R04210
    Número CAS
    7440-03-1
    Densidade
    8,57 g/cm3
    Formulário
    Alvo
    Pureza
    ≥99.9%
     
    ST0047 Alvos e discos de pulverização de liga de nióbio e zircônio
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    Material
    R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)
    Dimensões
    Alvos circulares: diâmetro de 10 a 400 mm; espessura de 2 a 28 mm
    Pureza
    99,9% 99,95% 99,99%
     
    ST0056 Alvos de liga de nióbio-hafnío (NbHf)
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    Dimensões
    Diâmetro: 10-400 mm, ou sob medida
    Material
    Nb-10Hf
    Formulário
    Alvo, Disco

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    sc/1747042841-normal-ST0013.jpg
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      • Other
      Diâmetro

      2''

      • 2''
      • 3''
      • 4''
      • 5''
      • 6''
      • Outros
      • Other
      Espessura

      0,25''

      • 0,25''
      • 0,125''
      • Todos
      • Other
      Vinculação

      Sim

      • Sim
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