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  • ST11192 Alvo rotativo de óxido de índio-estanho, alvo rotativo de ITO

    • ST11192 Alvo rotativo de óxido de índio-estanho, alvo rotativo de ITO

    Número de catálogo. ST11192
    Composição In₂O₃, SnO₂
    Pureza ≥99,99% ou conforme especificação do cliente
    Formulário Meta
    Forma Tubular
    Dimensões Personalizado

    O alvo rotativo de óxido de índio e estanho, alvo de ITO, é fabricado usando uma mistura controlada de óxidos de índio e estanho para oferecer desempenho uniforme de pulverização. A Stanford Advanced Materials (SAM) utiliza avaliações de qualidade rigorosas, incluindo análise espectroscópica e verificações de rotina da homogeneidade do material. Seu processo enfatiza a reprodutibilidade e o controle rigoroso da composição para dar suporte à deposição precisa de filmes necessários para aplicações de semicondutores e optoeletrônicos.

    Produtos relacionados: Alvos de pulverização de óxido de estanho de índio (ITO), Materiais de evaporação de óxido de estanho de índio (ITO)

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    Indium Tin Oxide Rotary Target, ITO Target
    Indium Tin Oxide Rotary Target, ITO Target
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    ST11192 Alvo rotativo de óxido de índio-estanho, alvo rotativo de ITO
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    Composição
    In₂O₃, SnO₂
    Pureza
    ≥99,99% ou conforme especificação do cliente
    Formulário
    Meta
    Forma
    Tubular
    Dimensões
    Personalizado
     
    NB0036 Alvo de nióbio, alvo de Nb
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    Dimensões
    Alvos circulares Diâmetro 10-400 mm Espessura 2-28
    Material
    R04200 R04210
    Número CAS
    7440-03-1
    Densidade
    8,57 g/cm3
    Formulário
    Alvo
    Pureza
    ≥99.9%
     
    ST0047 Alvos e discos de pulverização de liga de nióbio e zircônio
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    Material
    R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)
    Dimensões
    Alvos circulares: diâmetro de 10 a 400 mm; espessura de 2 a 28 mm
    Pureza
    99,9% 99,95% 99,99%
     
    ST0056 Alvos de liga de nióbio-hafnío (NbHf)
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    Dimensões
    Diâmetro: 10-400 mm, ou sob medida
    Material
    Nb-10Hf
    Formulário
    Alvo, Disco

    FAQ

    Qual é o papel do design rotativo no desempenho da pulverização catódica?

    O design rotativo minimiza o aquecimento localizado e a erosão do alvo, promovendo um consumo uniforme do material. Isso garante taxas de deposição estáveis e maior uniformidade do filme, fatores essenciais em aplicações como a fabricação de telas e células solares.

    Como é verificada a composição do material durante a produção?

    A composição é verificada por meio de técnicas espectrométricas e análises químicas entre lotes. Esses testes minimizam o desvio na proporção índio/estanho e garantem propriedades consistentes do alvo em condições de pulverização catódica de alta potência.

    As dimensões personalizadas podem afetar a compatibilidade da instalação?

    Sim, as dimensões personalizadas permitem a adaptação a diversos sistemas de pulverização catódica. Os clientes devem especificar os requisitos de seus equipamentos para garantir a compatibilidade com as câmaras de deposição e manter a consistência do processo. Para mais detalhes, entre em contato conosco.

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