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ST11192 Alvo rotativo de óxido de índio e estanho, alvo de ITO

Número de catálogo. ST11192
Composição In2O3, SnO2
Pureza ≥99,99%, ou personalizado
Formulário Alvo
Forma Tubular
Dimensões Personalizado

O alvo rotativo de óxido de índio e estanho, alvo de ITO, é fabricado usando uma mistura controlada de óxidos de índio e estanho para oferecer desempenho uniforme de pulverização. A Stanford Advanced Materials (SAM) utiliza avaliações de qualidade rigorosas, incluindo análise espectroscópica e verificações de rotina da homogeneidade do material. Seu processo enfatiza a reprodutibilidade e o controle rigoroso da composição para dar suporte à deposição precisa de filmes necessários para aplicações de semicondutores e optoeletrônicos.

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FAQ

Qual é o papel do design rotativo no desempenho da pulverização catódica?

O design rotativo minimiza o aquecimento localizado e a erosão do alvo, promovendo o consumo uniforme de material. Isso garante taxas de deposição estáveis e melhor uniformidade do filme, o que é fundamental em aplicações como a fabricação de telas e células solares.

Como a composição do material é verificada durante a produção?

A composição é verificada por meio de técnicas espectrométricas e análise química de lote para lote. Esse teste minimiza o desvio na proporção de índio para estanho e garante propriedades consistentes do alvo sob condições de pulverização de alta potência.

As dimensões personalizadas podem afetar a compatibilidade da instalação?

Sim, as dimensões personalizadas permitem a adaptação a vários sistemas de sputtering. Os clientes devem especificar os requisitos de seus equipamentos para garantir a compatibilidade com as câmaras de deposição e manter a consistência do processo. Para obter mais detalhes, entre em contato conosco.

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