ST0058 Alvo de Sputtering de Zinco (Zn)

Name: ST0058 Zinc (Zn) Sputtering Target
SKU: ST0058
Availability: InStock
Rating: 4.9 (166 reviews)

Número de catálogo.	ST0058
Composição	Zn
Número CAS	7440-66-6
Pureza	≥99% (99,99% / 99,999% disponível)
Forma	Discos ou personalizados
Diâmetro	2", 3", 4", 5", 6" ou personalizado
Espessura	0,25", 0,125" ou personalizado
Tipo de título	Cobre ou personalizado
Sinônimos	Alvo de pulverização de zinco, alvo de Zn, alvo de zinco de alta pureza

A Stanford Advanced Materials (SAM) fornece alvos de pulverização de zinco (Zn) de alta pureza para aplicações de deposição de filmes finos que exigem camadas condutoras confiáveis. Os alvos de zinco são amplamente utilizados na produção de óxidos condutores transparentes (TCOs), especialmente para painéis de exibição, células fotovoltaicas e dispositivos optoeletrônicos. Nossos alvos de Zn são fundidos a vácuo e usinados com precisão para obter uma estrutura de grão fino e uma densidade relativa >99%, o que permite um desempenho consistente de pulverização catódica e deposição uniforme de filme. Disponíveis em geometrias de disco padrão ou configurações personalizadas, com opções de ligação de cobre para gerenciamento térmico otimizado.

Produtos relacionados: Alvo de pulverização de AZO (óxido de zinco dopado com alumínio) | Alvo de pulverização de ITO (óxido de índio e estanho) | Alvo de pulverização de titânio (Ti)

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FAQ

P: Qual é a pureza do alvo de zinco que preciso para aplicações de células solares?

A: Para a maioria das aplicações fotovoltaicas (CIGS, perovskita, CdTe), recomendamos 99,99% (4N) de pureza ou mais. Uma pureza menor pode introduzir impurezas que afetam a mobilidade do portador e reduzem a eficiência da célula.

P: O que é AZO e por que é importante?

A: O AZO (óxido de zinco dopado com alumínio) é um óxido condutor transparente produzido por pulverização conjunta de zinco e alumínio. Ele é cada vez mais usado como uma alternativa de baixo custo ao ITO (óxido de índio e estanho) em telas e células solares. Se estiver planejando produzir filmes de AZO, informe-nos para que possamos recomendar a configuração correta do alvo.

P: Os alvos de zinco oxidam durante o armazenamento?

A: O zinco pode formar uma fina camada de óxido quando exposto ao ar. É por isso que selamos a vácuo todos os nossos alvos de zinco imediatamente após a limpeza. Armazene-os na embalagem lacrada até que estejam prontos para uso e considere a possibilidade de fazer uma breve queima antes da pulverização para remover qualquer óxido da superfície.

P: Qual método de pulverização catódica funciona melhor para o zinco?

A: O zinco é condutor, portanto, a pulverização catódica em corrente contínua funciona bem. Para filmes de Zn puro, recomenda-se a CC. Para sputtering reativo (fabricação de ZnO ou AZO), normalmente é usada RF ou DC pulsada com gás oxigênio.

P: Vocês podem fornecer um alvo com tamanho de grão controlado?

A: Sim, podemos controlar o tamanho do grão durante o processo de fabricação. O tamanho de grão fino (<100 μm) é recomendado para a maioria das aplicações de sputtering para garantir uma erosão uniforme. Especifique sua necessidade ao fazer o pedido.

P: Vocês oferecem alvos de óxido de zinco dopado com alumínio (AZO)?

A: Sim, oferecemos alvos AZO com várias concentrações de dopagem (normalmente de 1 a 3% de Al₂O₃). Entre em contato conosco para informar seus requisitos específicos.

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Material	Zinco (Zn)
Pureza	≥99% (99,99% / 99,999% disponíveis mediante solicitação)
Número CAS	7440-66-6
Cor/aparência	Cinza azulado-prateado
Ponto de fusão	419.5°C
Densidade	7,14 g/cm³
Resistividade elétrica	5,9 µΩ-cm (a 20°C)
Tipo de pulverização	CC, RF
Processo de fabricação	Fusão a vácuo + usinagem de precisão
Tamanho do grão	Estrutura controlada de grãos finos
Densidade relativa	>99%
Tipo de ligação	Placa de suporte de cobre (ligação de índio ou elastômero disponível)
Forma padrão	Disco
Diâmetros padrão	2", 3", 4", 5", 6"
Faixa de espessura	0,125", 0,25" ou personalizado
Embalagem	Selado a vácuo em condições de sala limpa

Área de aplicação	Uso específico
Indústria de telas	Eletrodos condutores transparentes para LCD, OLED e painéis de tela sensível ao toque
Energia solar	Camadas de TCO para células solares de filme fino (CIGS, CdTe, Perovskite)
Semicondutores	Camadas de barreira, materiais de eletrodo e transistores de película fina
Revestimentos ópticos	Revestimentos condutores transparentes, camadas antirreflexo
Automotivo	Revestimentos resistentes à corrosão para componentes de precisão
Tecnologia de sensores	Filmes piezoelétricos de ZnO para sensores de gás e dispositivos de ondas acústicas
Pesquisa e desenvolvimento	Pesquisa de materiais 2D, caracterização de filmes finos

Material	Zinco (Zn)
Pureza	≥99% (99,99% / 99,999% disponível mediante solicitação)
Número CAS	7440-66-6
Cor/aparência	Cinza azulado-prateado
Ponto de fusão	419.5°C
Densidade	7,14 g/cm³
Resistividade elétrica	5,9 µΩ-cm (a 20°C)
Tipo de pulverização	CC, RF
Processo de fabricação	Fusão a vácuo + usinagem de precisão
Tamanho do grão	Estrutura controlada de grãos finos
Densidade relativa	>99%
Tipo de ligação	Placa de suporte de cobre (ligação de índio ou elastômero disponível)
Forma padrão	Disco
Diâmetros padrão	2", 3", 4", 5", 6"
Faixa de espessura	0,125", 0,25" ou personalizado
Embalagem	Selado a vácuo em condições de sala limpa

ST0058 Alvo de Sputtering de Zinco (Zn)

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Especificação do alvo de pulverização de zinco (Zn)

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P: O que é AZO e por que é importante?

P: Os alvos de zinco oxidam durante o armazenamento?

P: Qual método de pulverização catódica funciona melhor para o zinco?

P: Vocês podem fornecer um alvo com tamanho de grão controlado?

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