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  • ST0053 Alvo de Sputtering em Titânio (Ti)

    • ST0053 Alvo de Sputtering em Titânio (Ti)

    Número de catálogo. ST0053
    Composição Ti
    Número CAS 7440-32-6
    Pureza 99,9% - 99,99%
    Forma Discos ou feitos sob medida
    Diâmetro 2", 3", 4", 5", 6" ou sob medida
    Espessura 0,25", 0,125" ou sob medida
    Tipo de título Cobre ou personalizado

    Stanford Advanced Materials é líder pioneira no desenvolvimento e na fabricação de materiais de alto desempenho para aplicações industriais avançadas. Nosso compromisso com a qualidade e a inovação se reflete em nosso alvo de pulverização de titânio (Ti), projetado para apresentar excelente desempenho nos ambientes mais exigentes de pulverização e deposição de filmes finos.

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    Titanium (Ti) Sputtering Target
    Titanium (Ti) Sputtering Target
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    ST0053 Alvo de Sputtering em Titânio (Ti)
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    Composição
    Ti
    Número CAS
    7440-32-6
    Pureza
    99,9% - 99,99%
    Forma
    Discos ou feitos sob medida
    Diâmetro
    2", 3", 4", 5", 6" ou sob medida
    Espessura
    0,25", 0,125" ou sob medida
    Tipo de título
    Cobre ou personalizado
     
    NB0036 Alvo de nióbio, alvo de Nb
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    Dimensões
    Alvos circulares Diâmetro 10-400 mm Espessura 2-28
    Material
    R04200 R04210
    Número CAS
    7440-03-1
    Densidade
    8,57 g/cm3
    Formulário
    Alvo
    Pureza
    ≥99.9%
     
    ST0047 Alvos e discos de pulverização de liga de nióbio e zircônio
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    Material
    R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)
    Dimensões
    Alvos circulares: diâmetro de 10 a 400 mm; espessura de 2 a 28 mm
    Pureza
    99,9% 99,95% 99,99%
     
    ST0056 Alvos de liga de nióbio-hafnío (NbHf)
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    Dimensões
    Diâmetro: 10-400 mm, ou sob medida
    Material
    Nb-10Hf
    Formulário
    Alvo, Disco

    FAQ

    Quais setores costumam utilizar alvos de pulverização de titânio (Ti)?

    Os alvos de pulverização de titânio (Ti) são amplamente utilizados na fabricação de semicondutores, em revestimentos ópticos, no setor aeroespacial e em diversas aplicações de pesquisa avançada.

    Quais processos de pulverização catódica são compatíveis com este alvo?

    Este alvo é otimizado para processos de pulverização por DC, embora algumas aplicações de pulverização por RF também possam ser compatíveis, dependendo da configuração do sistema.

    É possível personalizar as formas e os tamanhos dos alvos de pulverização?

    Sim, nossos alvos de pulverização de titânio (Ti) estão disponíveis no formato padrão de disco ou podem ser fabricados sob medida para atender a requisitos específicos do sistema.

    Qual é o nível de pureza do alvo de pulverização de titânio (Ti)?

    O alvo possui pureza ≥99%, garantindo alto desempenho e contaminação mínima durante os processos de deposição.

    Como o alvo de pulverização de titânio (Ti) deve ser armazenado para manter a qualidade?

    Deve ser armazenado em um ambiente limpo e seco, dentro de sua embalagem selada a vácuo, para evitar contaminação e garantir o desempenho ideal.

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