Descontinuado IF5688 (Descontinuado) Forno Tubular 1200C com Mecanismo de Viagem Interna para HPCVD OTF-1200X-S-HPCVD

Número de catálogo.	IF5688
Número do item	OTF-1200X-S-HPCVD
Temperatura operacional	1100℃ continuamente
Temperatura operacional	≤ 1200℃, ≤1hora

Descontinuado

Forno de Tubo 1200C é um forno de tubo compacto de 2" apresentando um sistema interno de transporte de amostras dentro do tubo de processamento. Stanford Advanced Materials (SAM) possui vasta experiência na fabricação e fornecimento de Fornos de Tubo Compactos de alta qualidade.

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Recursos	Estrutura de casco de dupla camada com sistema de resfriamento a ar, que pode reduzir efetivamente a temperatura da superfície do casco Revestido com uma camada de óxido de alumínio para melhorar a eficiência de aquecimento do equipamento
Temperatura de Trabalho	Temperatura máxima de aquecimento: 1200℃ (≤30min) Temperatura de operação: 1100℃
Parâmetros Básicos	Elemento de aquecimento: Liga de Mo-Fe-Cr-Al
Potência	220V AC, 2 KW, 50/60 Hz
Controle de Temperatura	Controle automático PID via relé de estado sólido com 30 etapas programáveis Proteção incorporada contra temperatura excessiva e falha do termopar Precisão de +/-1°C Termopar do tipo K Comprimento da zona de aquecimento: 200mm (8") Zona de temperatura constante: 60 mm (+/-1°C @ 1000 °C)
Vácuo	Flange de grampo rápido de 2" com conexões de 1/4'', manômetro de vácuo e válvula de agulha no lado direito A flange direita é conectada a um belows de aço inoxidável que é extensível até 150 mm. Flange esquerda com porta de vácuo KF25 de grampo rápido e válvula de ventilação de 1/4'' Nível máximo de vácuo: 10E-2 torr por bomba mecânica e 10-E5 por turbopump
Garantia	Um ano de garantia limitada com suporte vitalício. ATENÇÃO: Danos causados pelo uso de gases corrosivos e ácidos não estão cobertos pela Garantia Limitada de Um Ano da SAM.
Certificado	Certificado CE Certificação NRTL ou CSA disponível a um custo adicional.

Características	Estrutura de casca de dupla camada com sistema de refrigeração a ar, que pode reduzir efetivamente a temperatura da superfície da casca Revestido com revestimento de óxido de alumínio para melhorar a eficiência de aquecimento do equipamento
Temperatura de Trabalho	Temperatura máxima de aquecimento: 1200℃ (≤30min) Temperatura de operação: 1100℃
Parâmetros Básicos	Elemento de aquecimento: liga Mo-Fe-Cr-Al
Potência	220V CA, 2 KW, 50/60 Hz
Controle de Temperatura	Controle automático PID via relé de estado sólido com 30 etapas programáveis Proteção contra sobretemperatura e falha do termopar integrada Precisão de +/-1°C Termopar tipo K Comprimento da zona de aquecimento: 200mm (8") Zona de temperatura constante: 60 mm (+/-1°C @ 1000 °C)
Selagem a Vácuo	Flange de braçadeira rápida de 2" com acessórios de 1/4'', manômetro de vácuo e válvula de agulha do lado direito A flange direita está conectada a uma bolsa de aço inoxidável que é esticável até 150 mm. Flange esquerda com porta de vácuo KF25 de aperto rápido e válvula de ventilação de 1/4'' Nível máximo de vácuo: 10E-2 torr por bomba mecânica e 10-E5 por bomba de turbina
Garantia	Garantia limitada de um ano com suporte ao longo da vida. ATENÇÃO: Quaisquer danos causados pelo uso de gases corrosivos e ácidos não estão cobertos pela Garantia Limitada de Um Ano da SAM.
Certificado	Certificado CE Certificação NRTL ou CSA disponível por custo adicional.

Descontinuado IF5688 (Descontinuado) Forno Tubular 1200C com Mecanismo de Viagem Interna para HPCVD OTF-1200X-S-HPCVD

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Forno Tubular 1200C com Mecanismo de Viagem Interna OTF-1200X-S-HPCVD Descrição

Forno Tubular 1200C com Mecanismo de Viagem Interna OTF-1200X-S-HPCVD Especificações

Forno Tubular 1200C com Mecanismo de Viagem Interna OTF-1200X-S-HPCVD Aplicações

Forno Tubular 1200C com Mecanismo de Viagem Interna OTF-1200X-S-HPCVD Embalagem

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