ST0059 Alvo de pulverização de zircônio (alvo de pulverização de Zr)

Introdução ao alvo de pulverização de zircônio

O zircônio (Zr) é um metal prateado com densidade de 6,52 g/cm3. O Zr tem uma seção transversal de absorção de nêutrons muito pequena e um ponto de fusão relativamente alto (1855 °C ou 3371 °F), o que faz do zircônio um ótimo material para hastes de energia nuclear. A esponja de zircônio e as barras de cristal são as matérias-primas para a fabricação de alvos de pulverização. Embora a esponja de Zr seja barata e tenha baixa pureza, ela contém um alto teor de oxigênio. As barras de cristal de zircônio têm custo e pureza mais altos, o que as torna materiais ideais para alvos de sputtering.
Tanto o Zr quanto o Hf podem ser aplicados em indústrias nucleares. No entanto, eles têm propriedades diferentes na captura de nêutrons. Embora tenham propriedades muito semelhantes, eles precisam ser separados usando o método de extração líquida ou a destilação de sal fundido. Fornecemos dois tipos de alvos de zircônio de alta pureza: baixo háfnio (250ppm, ou 0,025%) e alto háfnio.

Aplicações do alvo de pulverização de zircônio

1. Fabricação de semicondutores: Utilizado na deposição de filmes finos de zircônio em substratos de semicondutores durante a fabricação de circuitos integrados (ICs), microchips e outros componentes eletrônicos. Os alvos de sputtering de zircônio ajudam a criar filmes finos com espessura e uniformidade precisas, cruciais para o desempenho e a confiabilidade dos dispositivos semicondutores.

2. Revestimentos ópticos: Usado na produção de revestimentos ópticos para lentes, espelhos e outros componentes ópticos em setores como telecomunicações, aeroespacial e pesquisa científica. Os filmes finos de zircônio depositados por alvos de pulverização aumentam as propriedades ópticas das superfícies, como a refletividade e a transmissão de luz, para várias aplicações.

3. Engenharia de superfície: Empregado em processos de modificação de superfície, incluindo a deposição de revestimentos de zircônio para aumentar a resistência ao desgaste, a resistência à corrosão e a biocompatibilidade dos materiais. Os alvos de sputtering de zircônio permitem a deposição de filmes finos com propriedades personalizadas para atender a requisitos específicos em setores como o automotivo, médico e aeroespacial.

4. Células solares de filme fino: Utilizados na produção de células solares de filme fino, em que os materiais à base de zircônio servem como camadas tampão, óxidos condutores transparentes ou contatos posteriores para melhorar a eficiência e o desempenho dos painéis solares. Os alvos de pulverização de zircônio desempenham um papel crucial na deposição dessas camadas de filme fino com controle preciso sobre a composição e a espessura.

Especificação do alvo de pulverização de zircônio

Embalagem do alvo de sputtering de zircônio

Nossos alvos de sputtering de zircônio são cuidadosamente manuseados para evitar danos durante o armazenamento e o transporte e para preservar a qualidade de nossos produtos em sua condição original.

Perguntas frequentes sobre alvos de pulverização de zircônio

Os alvos de sputtering de zircônio podem ser ligados ou dopados?

Sim, os alvos de zircônio podem ser ligados ou dopados com outros elementos, como ítrio ou nióbio, para modificar suas propriedades para aplicações especializadas.

Os alvos de sputtering de zircônio requerem placas de apoio?

Dependendo do sistema de sputtering e da aplicação, os alvos de zircônio podem ser ligados a placas de apoio de cobre para melhorar a dissipação de calor e a estabilidade.

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