CY8562 Pastilha de carboneto de silício Substrato de SiC 2 em 6H tipo N

Substrato de wafer de carbeto de silício SiC de 2 polegadas tipo 6H N Descrição

Nosso substrato de wafer de carbeto de silício (SiC) tipo 6H N de 2 polegadas oferece excelente desempenho em aplicações de semicondutores de alta potência e alta temperatura. Com um amplo bandgap, excelente condutividade térmica e resistência mecânica robusta, esse material de SiC suporta dispositivos que operam em condições extremas com o mínimo de comprometimento da eficiência. Sua dopagem tipo N garante uma condução de corrente confiável e resistividade controlada, tornando-o ideal para componentes eletrônicos de potência, de alta frequência e optoeletrônicos.

Fabricado sob rigorosos padrões de qualidade, cada wafer passa por uma inspeção meticulosa para garantir uma estrutura cristalina uniforme, integridade da superfície e espessura precisa. A densidade de defeitos consistentemente baixa do polítipo 6H contribui para aumentar a confiabilidade do dispositivo e prolongar a vida útil operacional. Escolha o nosso substrato de wafer de SiC para aproveitar as vantagens de um material semicondutor avançado, projetado para as aplicações industriais e de pesquisa mais exigentes.

Substrato de wafer de carbeto de silício SiC 2 em aplicações do tipo 6H N

Os wafers de carbeto de silício (SiC) na configuração tipo 6H N oferecem desempenho excepcional por meio de um amplo bandgap, alta condutividade térmica e resistência mecânica robusta. Esses recursos permitem maior eficiência, tamanho reduzido do dispositivo e maior confiabilidade em condições adversas. O diâmetro de 2 polegadas oferece flexibilidade para várias finalidades comerciais, industriais e de pesquisa, tornando-os ideais para aplicações que exigem dissipação de calor e manuseio de energia superiores em eletrônicos avançados e outros sistemas de alto desempenho.

1. semicondutores e eletrônicos

-Transistores de potência: utilizam o amplo intervalo de banda para maior manuseio de tensão e conversão eficiente de energia.

-Dispositivos de alta frequência: Atingem velocidades de chaveamento mais rápidas com perda mínima de energia, o que é vital para os sistemas de comunicação de última geração.

2. instrumentos médicos e analíticos

-Componentes de laser e sensores: Beneficiam-se da excelente estabilidade térmica para medições e diagnósticos precisos.

-Equipamento de geração de imagens: aproveite a qualidade e a sensibilidade aprimoradas do sinal para obter resultados mais claros e detalhados.

3. automotivo e energia renovável

-Módulos de energia para veículos elétricos: Aprimoram os sistemas de carregamento de baterias e acionamentos de motores com menores perdas de energia.

-Inversores solares: integram-se a projetos compactos para aumentar a eficiência da conversão de energia fotovoltaica.

Wafer de carbeto de silício Substrato de SiC 2 em embalagem tipo 6H N

Nosso wafer de carbeto de silício (2 polegadas, 6H, tipo N) é embalado em contêineres antiestáticos selados com inserções de espuma para evitar choques mecânicos. Uma barreira embalada a vácuo minimiza a exposição à umidade, enquanto as luvas de proteção adicionais impedem a entrada de partículas. As opções de embalagem personalizada, como caixas de camada dupla ou bolsas purgadas com nitrogênio, estão disponíveis para atender a requisitos específicos de controle de contaminação e garantir a preservação ideal do wafer.

Embalagem: Selada a vácuo, caixa de madeira ou personalizada.

Perguntas frequentes sobre o substrato de wafer de carbeto de silício SiC 2 em 6H tipo N

P1: Quais são as principais propriedades do material do wafer de carbeto de silício SiC substrato 2 em 6H tipo N?

A1: Esse wafer apresenta um amplo bandgap de cerca de 3,0 eV, o que o torna ideal para aplicações de alta temperatura e alta potência. Ele apresenta excelente condutividade térmica de aproximadamente 3-4 W/cm-K e um alto campo elétrico de ruptura, o que permite recursos superiores de manuseio de energia. O polipropileno 6H oferece uma estrutura cristalina consistente, enquanto a dopagem do tipo N garante uma condutividade elétrica controlada. Além disso, sua estabilidade química e dureza excepcionais suportam o desempenho avançado do dispositivo.

P2: Como esse produto deve ser manuseado e armazenado?

A2: É fundamental manusear o wafer pelas bordas e evitar o contato direto com a superfície para evitar contaminação ou danos. Armazene em um ambiente limpo e seco, de preferência em um recipiente antiestático com exposição mínima à vibração. A manutenção de níveis adequados de umidade e temperatura ajuda a evitar deformações ou descargas eletrostáticas. Sempre use luvas que não soltem fiapos e procedimentos adequados de sala limpa para garantir a integridade do produto.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao wafer de carbeto de silício SiC Substrate 2 in 6H N-type?

R3: Esses wafers normalmente estão em conformidade com os princípios de gerenciamento de qualidade ISO 9001, garantindo procedimentos de fabricação consistentes, rastreabilidade de lotes e verificações de qualidade rigorosas. Muitos fabricantes também aderem à ISO 14001, validando práticas ambientais responsáveis. Outras certificações podem incluir a conformidade com a RoHS, que reflete o mínimo de substâncias perigosas, e padrões especializados do setor de semicondutores, como o SEMI M55, que descreve as especificações para substratos de carbeto de silício na fabricação de dispositivos.

Informações relacionadas

1. Propriedades e vantagens do material

Esse wafer de carbeto de silício tipo N de 2 pol. e 6H apresenta uma estrutura cristalina excepcionalmente estável que permite excepcional condutividade térmica e alta tensão de ruptura. Essas características permitem uma operação confiável em condições extremas de temperatura e ajudam a reduzir os requisitos de gerenciamento térmico. Além disso, a dopagem do tipo N modula com precisão o fluxo de elétrons, permitindo velocidades de comutação mais rápidas e conversão de energia mais eficiente. Como resultado, esse wafer mantém um desempenho superior em ambientes onde os materiais semicondutores tradicionais geralmente falham.

Utilizando propriedades de bandgap amplo, o polímero 6H garante uma excelente resposta de frequência, dando suporte a aplicações como transistores de alta potência, diodos e componentes de RF. Sua estrutura de rede robusta minimiza substancialmente a densidade de defeitos, aumentando a longevidade do dispositivo e reduzindo as possíveis taxas de falha. De modo geral, a combinação de resiliência térmica, alta mobilidade de elétrons e estabilidade química incomparável torna o wafer de carbeto de silício 2 em 6H tipo N um substrato cada vez mais valioso para os fabricantes que buscam desempenho avançado em eletrônica de potência.

2. Aplicações em setores avançados

Além de sua utilidade na eletrônica de potência convencional, o wafer de carbeto de silício 2 em 6H tipo N é muito procurado para soluções aeroespaciais e automotivas de ponta. Sua capacidade de suportar estresse mecânico intenso e, ao mesmo tempo, manter propriedades elétricas confiáveis garante uma operação estável em aviônicos, trens de força de veículos elétricos e sistemas de satélite. Além disso, a tolerância a altas temperaturas do wafer oferece requisitos reduzidos de sistema de resfriamento, abrindo caminho para projetos mais leves e eficientes em setores em que o peso e a economia de combustível são fundamentais.

Juntamente com sua forte inércia química, esse substrato atende a demandas críticas em áreas como energia renovável e maquinário industrial complexo. Ao atender a essas necessidades especializadas, o substrato de SiC tipo N de 2 em 6H se mostra indispensável para os setores modernos que exigem precisão e durabilidade em seus componentes eletrônicos.