Alvo rotativo de molibdênio 99%, Dia. 6 polegadas Descrição

O Molybdenum Rotary Target 99%, medindo 6 polegadas de diâmetro, foi projetado para se destacar em condições de alta temperatura e alta tensão. Com composição de 99% de molibdênio puro, ele apresenta excepcional condutividade térmica, resistência à corrosão e impressionante resistência mecânica. Essas propriedades o tornam uma opção confiável para ambientes exigentes, especialmente em processos de deposição de filmes finos e pulverização catódica, em que a uniformidade e a longevidade são fundamentais.

Fabricado sob rígidos controles de qualidade, esse alvo rotativo atende aos rigorosos padrões do setor em termos de pureza e precisão dimensional. Suas características robustas permitem que ele suporte as pressões extremas de vácuo frequentemente encontradas na fabricação de semicondutores, na fabricação de células solares e em várias aplicações de revestimento. Escolha esse Molybdenum Rotary Target 99%, Dia. 6 inch para obter desempenho confiável, consistência sólida e confiança na obtenção de resultados superiores em seus processos de produção de alta qualidade.

Alvo Rotativo de Molibdênio 99%, Dia. 6 polegadas Aplicações

Os alvos rotativos de molibdênio (Mo) são amplamente reconhecidos por sua alta pureza, estabilidade mecânica excepcional e desempenho confiável em ambientes de deposição exigentes. Com um diâmetro de 6 polegadas e 99% de pureza, esses alvos de pulverização catódica oferecem uniformidade superior de filme e maior rendimento. Suas propriedades exclusivas, incluindo baixa expansão térmica e excelente resistência à corrosão, tornam-nos indispensáveis para vários setores que buscam revestimentos de película fina precisos e duráveis.

1. aplicações de deposição de filmes finos

-Revestimento PVD: O alto ponto de fusão e a boa condutividade térmica do Mo proporcionam filmes uniformes e maior eficiência de revestimento.

-Magnetron Sputtering: As baixas taxas de pulverização permitem a deposição controlada, resultando em filmes finos densos e sem defeitos.

2. aplicações de semicondutores

-Circuitos integrados: A excelente condutividade elétrica e a difusão mínima do Mo o tornam ideal para eletrodos de porta e camadas de interconexão.

-Componentes eletrônicos: Sua inércia química garante desempenho estável e conexões confiáveis em embalagens de chips e transistores de filme fino.

3. aplicações de revestimento óptico

-Revestimentos antirreflexo: O comportamento de pulverização consistente do Mo ajuda a criar camadas de precisão que minimizam os reflexos e aumentam a clareza óptica.

-Revestimentos de espelho: As propriedades excepcionais de adesão permitem espelhos de alta qualidade com maior durabilidade e estabilidade térmica para sistemas ópticos avançados.

Alvo rotativo de molibdênio 99%, Dia. Embalagem de 6 polegadas

Os alvos rotativos de molibdênio com 99% de pureza são meticulosamente embalados para garantir o transporte seguro e a longevidade. Cada peça de seis polegadas de diâmetro é selada em embalagem a vácuo para evitar a oxidação, com várias camadas de espuma e barreiras contra umidade para proteção extra. Medidas anticorrosivas, como a purga com gás inerte, estão incluídas para aplicações sensíveis. As especificações de tamanho, formato e rotulagem podem ser totalmente personalizadas de acordo com as necessidades do cliente, garantindo o desempenho ideal e a autenticidade na entrega.

Embalagem: Selado a vácuo, caixa de madeira ou personalizado.

Alvo rotativo de molibdênio 99%, Dia. 6 polegadas Perguntas frequentes

P1: Quais são as principais propriedades do material do Molybdenum Rotary Target 99%, Dia. 6 polegadas?

A1: O alvo rotativo de molibdênio 99%, Dia. Ele tem uma densidade próxima a 10,2 g/cm³, um alto ponto de fusão em torno de 2.623°C e uma condutividade térmica e elétrica excepcional. O material também oferece excelente resistência à corrosão e força mecânica, o que o torna adequado para ambientes exigentes de sputtering a vácuo e controle uniforme da espessura do filme.

P2: Como esse alvo de sputtering de Mo pode ser processado ou fabricado?

A2: A fabricação desse alvo de pulverização de Mo normalmente envolve a metalurgia do pó, em que o pó de molibdênio de alta pureza é prensado a altas pressões e sinterizado em um ambiente a vácuo para atingir a densidade ideal. A prensagem isostática a quente subsequente pode aumentar ainda mais a densidade e a uniformidade dos grãos. O produto final é usinado com o diâmetro especificado de 6 polegadas, garantindo tolerâncias dimensionais rigorosas. O recozimento adequado ajuda a obter excelentes propriedades microestruturais, reduzindo a porosidade e aumentando a eficiência do sputtering.

P3: Quais padrões de qualidade e certificações se aplicam ao Molybdenum Rotary Target 99%, Dia. 6 polegadas?

R3: Os alvos rotativos de molibdênio de alta qualidade normalmente estão em conformidade com as normas internacionais, como ASTM B386 e ASTM F288, para composição química e propriedades mecânicas. Eles geralmente atendem à norma ISO 9001 para o gerenciamento geral da qualidade, garantindo processos de produção consistentes e rastreabilidade. Alguns fabricantes também mantêm a certificação AS9100 ou certificações aeroespaciais relevantes para aplicações especializadas. Todos esses padrões regem a pureza, a densidade, a precisão dimensional e a documentação de certificação para garantir um desempenho confiável e a satisfação do cliente.

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O Mo é um material valioso usado em várias aplicações de sputtering. Ele é extraído e purificado por meio de operações de processamento avançadas. A Stanford Advanced Materials obtém materiais de alta qualidade de fornecedores confiáveis, garantindo a qualidade e a consistência de nossos produtos de alvo de pulverização.

2. Fabricação de alvos de pulverização

Vários métodos são usados para produzir alvos de pulverização de Mo, incluindo a metalurgia do pó. Cada método resulta em diferentes características de alvo, como densidade, estrutura de grãos e propriedades de superfície. O método de fabricação é selecionado com base nos requisitos da aplicação pretendida e nas especificações de desempenho.