Substrato de safira padronizado CY5457

Número de catálogo.	CY5457
Material	Cristal único de Al2O3
Dimensões	Dia. 50,80 ± 0,10, Dia. 100,00 ± 0,10 (mm)
Pureza	>99.99%

Substrato de Safira Padronizado é um substrato de safira micro-padrão especializado amplamente utilizado no desenvolvimento de alta potência. Stanford Advanced Materials (SAM) possui vasta experiência na fabricação e fornecimento de substratos de cristal de alta qualidade.

Produtos relacionados: Wafer de Safira, Substrato de Cristal de Safira de Óxido de Alumínio, Wafer Epitaxial de Safira, Janelas de Safira

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Substrato de safira padronizado CY5457

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Material

Cristal único de Al2O3

Dimensões

Dia. 50,80 ± 0,10, Dia. 100,00 ± 0,10 (mm)

Pureza

>99.99%

CY2156 Substrato monocristalino de antimoneto de gálio (GaSb)

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Pureza

99,99%

Fórmula química

GaSb

Diâmetro

2", 3", 4"

Espessura

500 ± 25 μm, 600 ± 25 μm, 800 ± 25 μm

Orientação

(100) / (111) ±0,5°

NR2172 Wafer de nitreto de gálio

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Material

GaN

Espessura

300-450um

Diâmetro

Ø 2" / Ø 4" /Ø 6"

Wafer de safira CY2173

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Material

Al2O3

Espessura

0,35-1 mm, ou personalizado

Diâmetro

Ø 1-8", ou personalizado

Formulário

Wafer

Pureza

≥99.999%

Sinônimos

Pastilha de safira, pastilha de Al2O3

ÚLTIMAS RECOMENDAÇÕES

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CY2156 Substrato monocristalino de antimoneto de gálio (GaSb)

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*Código de controlo

Material	Al₂O₃ monocrystalino
Classe	Prime, Pronto para Epi
Orientação de Superfície	Plano C (0001)
Diâmetro (mm)	50,80 ± 0,10, 100,00 ± 0,10
Espessura (µm)	660 ± 10
Orientação do Flat Primário	Plano A(11-20) +/- 0,2°
Comprimento do Flat Primário	16,0 mm +/- 1,0 mm
Polimento	Polido de um lado
Variação Total da Espessura (TTV)	≤10 um
Deformação	15um
Pureza	>99,99%
Largura do Padrão (µm)	2,75~2,85
Altura do Padrão (µm)	1,65~1,85
Pitch do Padrão (µm)	3,0 ± 0,05

Material	Al₂O₃ monocristalino
Classe	Prime, Epi-Pronto
Orientação da Superfície	Plano C (0001)
Diâmetro (mm)	50,80 ± 0,10, 100,00 ± 0,10
Espessura (μm)	660 ± 10
Orientação da Planície Primária	Plano A (11-20) +/- 0,2°
Comprimento da Planície Primária	16,0 mm +/- 1,0 mm
Polimento	Polido de um lado
Variação Total de Espessura (TTV)	≤10 um
Deformação	15 um
Pureza	>99,99%
Largura do Padrão (μm)	2,75~2,85
Altura do Padrão (μm)	1,65~1,85
Pitch do Padrão (μm)	3,0 ± 0,05

Region & Language

North America

South America

Europe

Asia Pacific

Middle-East

Substrato de safira padronizado CY5457

Descrição do Substrato de Safira Padronizado

Especificações do Substrato de Safira Padronizado

Vista SEM do Substrato de Safira Padronizado

Aplicação do Substrato de Safira Padronizado

Embalagem do Substrato de Safira Padronizado

Especificação

Caso

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