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  • ST11168 Alvo de pulverização planar de óxido de alumínio, alvo de Al2O3

    • ST11168 Alvo de pulverização planar de óxido de alumínio, alvo de Al2O3

    Número de catálogo. ST11168
    Composição Al₂O₃
    Pureza ≥99,99%
    Formulário Meta
    Forma Retangular
    Dimensões Personalizado

    O alvo de pulverização planar de óxido de alumínio (Al₂O₃) é fabricado com alumina de alta pureza processada sob condições controladas. Stanford Advanced Materials (SAM) emprega protocolos de inspeção detalhados, incluindo difração de raios X e perfilometria de superfície, para verificar a planicidade e a pureza. O processo de produção monitora rigorosamente a consistência da composição e a integridade microestrutural, garantindo que o alvo atenda aos rigorosos requisitos das aplicações de pulverização catódica.

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    Aluminum Oxide Planar Sputtering Target, Al2O3 Target
    Aluminum Oxide Planar Sputtering Target, Al2O3 Target
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    ST11168 Alvo de pulverização planar de óxido de alumínio, alvo de Al2O3
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    Composição
    Al₂O₃
    Pureza
    ≥99,99%
    Formulário
    Meta
    Forma
    Retangular
    Dimensões
    Personalizado
     
    NB0036 Alvo de nióbio, alvo de Nb
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    Dimensões
    Alvos circulares Diâmetro 10-400 mm Espessura 2-28
    Material
    R04200 R04210
    Número CAS
    7440-03-1
    Densidade
    8,57 g/cm3
    Formulário
    Alvo
    Pureza
    ≥99.9%
     
    ST0047 Alvos e discos de pulverização de liga de nióbio e zircônio
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    Material
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    Dimensões
    Alvos circulares: diâmetro de 10 a 400 mm; espessura de 2 a 28 mm
    Pureza
    99,9% 99,95% 99,99%
     
    ST0056 Alvos de liga de nióbio-hafnío (NbHf)
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    Dimensões
    Diâmetro: 10-400 mm, ou sob medida
    Material
    Nb-10Hf
    Formulário
    Alvo, Disco

    FAQ

    Como a configuração plana afeta a uniformidade do filme em aplicações de pulverização catódica?

    A configuração plana aumenta a uniformidade do filme ao manter uma distância consistente entre o alvo e o substrato. Isso minimiza as variações na taxa de deposição, o que é crucial na aplicação de revestimentos na fabricação de semicondutores e dispositivos ópticos.

    Quais métodos de garantia de qualidade são aplicados ao alvo de óxido de alumínio?

    A peça é submetida a uma inspeção dimensional por meio de perfilometria a laser e a uma análise de composição por fluorescência de raios X. Esses métodos garantem que a microestrutura e a composição química atendam aos rigorosos requisitos das aplicações de pulverização catódica. Entre em contato conosco para obter mais detalhes.

    É possível personalizar as dimensões do alvo de pulverização para um equipamento específico?

    Sim, as dimensões são personalizáveis para se adequarem a diversos sistemas de pulverização catódica. A personalização garante a integração adequada com seu equipamento de deposição, otimizando assim a eficiência do processo e a consistência da deposição do filme.

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    https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg
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    sc/1747042841-normal-ST0013.jpg
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      Diâmetro

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