ST0180 Alvo de Sputtering Óxido de Nióbio (Nb2O5)

Descrição do Alvo de Sputtering Óxido de Nióbio (Nb2O5)

O Alvo de Sputtering Óxido de Nióbio (Nb2O5) é projetado para aplicações de sputtering avançadas onde a alta pureza e o desempenho consistente são críticos. Fabricado com técnicas de processamento de ponta, este alvo fornece propriedades uniformes do material, ideais para deposição de filmes finos nas indústrias de microeletrônica e óptica. Sua composição garante excelente durabilidade sob condições de sputtering RF de alta potência, tornando-o uma escolha confiável para requisitos complexos de fabricação.

Aplicações do Alvo de Sputtering Óxido de Nióbio (Nb2O5)

· Microeletrônica: Ideal para a criação de filmes finos em dispositivos semicondutores.
· Revestimentos Ópticos: Utilizado em processos de deposição para produzir filmes ópticos de alta qualidade.
· Fotovoltaicos: Apoia a fabricação de painéis solares e dispositivos de energia relacionados.
· Pesquisa e Desenvolvimento: Empregado em estudos avançados de materiais e fabricação de protótipos.
· Revestimentos Industriais: Fornece revestimentos uniformes e duráveis para várias aplicações industriais.

Embalagem do Alvo de Sputtering Óxido de Nióbio (Nb2O5)

O nosso Alvo de Sputtering Óxido de Nióbio é meticulosamente embalado para preservar sua alta pureza e integridade. É envolto a vácuo e embalado com segurança em recipientes personalizados projetados para prevenir contaminação e danos físicos durante o transporte. As opções de embalagem estão disponíveis em vários pesos com base nos requisitos de aplicação.

Perguntas Frequentes

P: Quais indústrias se beneficiam mais com o uso do Alvo de Sputtering Óxido de Nióbio (Nb2O5)?
R: Indústrias como microeletrônica, óptica, fotovoltaica e revestimentos industriais se beneficiam significativamente devido à sua alta pureza e desempenho consistente.

P: Quais métodos de sputtering são compatíveis com este alvo?
R: Este alvo suporta métodos de sputtering RF e RF-R, tornando-o versátil para diferentes processos de deposição de filmes finos.

P: Como a pureza do alvo de Óxido de Nióbio impacta seu desempenho?
R: Um nível de pureza de ≥99% garante mínimas impurezas, levando a filmes finos mais uniformes e melhor desempenho do dispositivo.

P: Formas personalizadas estão disponíveis para o alvo de sputtering?
R: Sim, o alvo está disponível em discos ou pode ser fabricado de forma personalizada para atender a requisitos específicos de aplicação.

P: Como deve ser armazenado o Alvo de Sputtering Óxido de Nióbio?
R: Deve ser armazenado em um ambiente limpo e seco, mantendo-se na embalagem original a vácuo para manter sua alta pureza e eficácia.