ST0879 Alvo de pulverização de zirconato de lítio e lantânio (Li7La3Zr2O12)

Descrição do Alvo de Sputtering de Zircônia de Lítio e Lantânio

O Alvo de Sputtering de Zircônia de Lítio e Lantânio oferece desempenho superior para aplicações avançadas de sputtering e deposição de filmes finos. Fabricado com foco em alta pureza e precisão, este alvo é projetado para oferecer resultados consistentes em ambientes industriais e de pesquisa exigentes. Suas formas e tamanhos personalizáveis garantem compatibilidade ideal com uma ampla gama de sistemas de deposição, tornando-o uma escolha preferida para microeletrônica, revestimentos ópticos e outras aplicações de alta tecnologia.

Aplicações do Alvo de Sputtering de Zircônia de Lítio e Lantânio

· Deposição de Filmes Finos: Ideal para a deposição de camadas dielétricas, cerâmicas e revestimentos funcionais em microeletrônica.
· Microeletrônica: Utilizado na fabricação de dispositivos semicondutores e painéis de display que requerem alta precisão e uniformidade.
· Dispositivos de Energia: Adequado para aplicação em sensores e componentes para células de combustível de óxido sólido.
· Pesquisa e Desenvolvimento: Fornece uma opção de material confiável para investigações experimentais e desenvolvimento de protótipos em pesquisa de materiais avançados.

Embalagem do Alvo de Sputtering de Zircônia de Lítio e Lantânio

Nossos Alvos de Sputtering de Zircônia de Lítio e Lantânio são embalados de forma segura para manter sua integridade durante o transporte. As opções de embalagem incluem discos selados a vácuo padrão, com soluções de embalagem personalizadas disponíveis mediante solicitação.

Perguntas Frequentes

P: Quais são as principais aplicações para Alvos de Sputtering de Zircônia de Lítio e Lantânio?
R: Eles são usados principalmente na deposição de filmes finos para microeletrônica, revestimentos ópticos, dispositivos de energia e pesquisa de materiais avançados.

P: Como é mantida a alta pureza (≥99%) do alvo de sputtering?
R: A pureza é garantida por meio de processos de fabricação rigorosos e medidas de controle de qualidade estritas durante a produção.

P: A forma e o tamanho do alvo de sputtering podem ser personalizados?
R: Sim, os alvos podem ser fabricados em discos ou por meio de designs personalizados para atender a requisitos específicos de aplicação.

P: Quais indústrias se beneficiam mais do uso deste alvo de sputtering?
R: Indústrias como microeletrônica, optoeletrônica, dispositivos de energia e laboratórios de pesquisa se beneficiam de seu desempenho confiável.

P: Que suporte adicional está disponível para otimizar os parâmetros de sputtering?
R: Nossa equipe de suporte técnico está disponível para fornecer orientações sobre a otimização de parâmetros de sputtering para atender às suas necessidades específicas de aplicação.