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Alvo de Sputtering de Berílio ST6570

Número de catálogo. ST6570
Pureza 99%, 99.9%
Forma Disco planar
Composição Ser

Stanford Advanced Materials (SAM) oferece alvo de pulverização de berílio de alta pureza Beryllium Sputtering Target Be para processos PVD em semicondutores, revestimentos ópticos e pesquisa científica, garantindo desempenho superior na deposição de filmes finos com certificações de padrões globais e suporte para soluções personalizadas.

Outras formas: Beryllium Planar Target Be

Produtos Relacionados: Alvo de Pulverização de Óxido de Berílio, BeO, Alvo de Pulverização de Cobre de Berílio, BeCu

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Descrição da
Especificação
SDS
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Pureza
99%, 99.9%
Forma
Disco planar
Composição
Ser
 
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Dimensões
Alvos circulares Diâmetro 10-400 mm Espessura 2-28
Material
R04200 R04210
Número CAS
7440-03-1
Densidade
8,57 g/cm3
Formulário
Alvo
Pureza
≥99.9%
 
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Material
R4251 (Nb-1Zr) R4261 (Nb-1Zr)
Dimensões
Alvos circulares Diâmetro de 10 a 400 mm Espessura de 2 a 28 mm
Pureza
99.9% 99.95% 99.99%
 
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Material
90% In2O3+10% SnO2 / 95% In2O3+5% SnO2
Pureza
>=99.99%
Densidade
7,1g/cm3

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País*

Brasil

    Pureza

    99.9%

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    • 99.5%
    • 99.99%
    • 99.999%
    • Other
    Diâmetro

    2''

    • 2''
    • 3''
    • 4''
    • 5''
    • 6''
    • Outros
    • Other
    Espessura

    0,25''

    • 0,25''
    • 0,125''
    • Todos
    • Other
    Vinculação

    Sim

    • Sim
    • Não
    • Other

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